مطالعه ترکیب شیمیایی و خواص مکانیکی لایه های نازک اکسید زیرکونیم به صورت تابعی از فشار گاز اکسیژن

اکسید زیر کونیوم به واسطه خواص برجسته ای نظیر سختی بالا مقاومت به خوردگی و سایش مناسب و مقاومت شیمیایی قابل قبول در هر دو حالت کپه ای و لایه نازک از مواد پرکاربرد در صنعت و فناوری است این تحقیق به مطالعه نانو ساختار ترکیب شیمیایی و خواص مکانیکی لایه های نازک اکسید زیرکونیوم تهیه شده به روش کندوپاش واکنشی مغناطیسی DC ( به ضخامت 300nm) بر روی لایه های سیلیکون در فشارهای مختلف گاز اکسیژن (3-15 sccm ) می پردازد نتایج نشان داد که افزایش فشار گاز اکسیژن تا 9sccm سبب بهبود سختی نمونه ها شده در حالیکه پس از آن افزایش فشار گاز اکسیژن اثر معکوس در سختی نمونه ها را دارد تحلیل های ساختاری نشان داد که این رفتار به واسطه تغییرات در آهنگ انباشت ناشی از تغییرات میزان اکسیژن در محفظه به هنگام لایه نشانی بود بررسی های مکانیکی همچنین نشان داد که مدول الاستیک لایه ها با افزایش فشار گاز اکسیژن رابطه ای عکس دارد مطالعه ترکیب شیمیایی نمونه ها که با آنالیز EDAX انجام شده ثابت کرد که این رابطه معکوس به خاطر افزایش میزان اکسیژن در ساختار لایه ها است.

Keywords:

لایه های نازک , اکسید زیرکونیم , فشار گاز اکسیژن , سختی , مدول الاستیک