CIVILICA We Respect the Science
(ناشر تخصصی کنفرانسهای کشور / شماره مجوز انتشارات از وزارت فرهنگ و ارشاد اسلامی: ۸۹۷۱)

کامپوزیت گرافن/نانومیله اکسیدنیکل

عنوان مقاله: کامپوزیت گرافن/نانومیله اکسیدنیکل
شناسه ملی مقاله: NANOG01_072
منتشر شده در کنفرانس علوم و فناوری نانو در سال 1393
مشخصات نویسندگان مقاله:

فاطمه زهرائی - گروه فیزیک، دانشگاه آزاد اسلامی واحد قم، قم
کورش رحیمی - گروه فیزیک، دانشگاه تربیت مدرس، تهران
احمد یزدانی - گروه فیزیک، دانشگاه تربیت مدرس، تهران

خلاصه مقاله:
در این مطالعه،کامپوزیت گرافن(کم لایه با کیفیت بالا) /نانومیله اکسیدنیکل ( GNC ) به روش سولووترمال سنتز شد . پوسته کردن گرافیت در فاز محلول در N- متیل-پیرولیدن (NMP) انجام و حضور گرافن چند لایه توسط طیف سنجی رامان تصدیق شده است. اکسیدنیکل و کامپوزیت گرافن/نانومیله اکسیدنیکل از طریق پراش اشعه ایکس (XRD) مشخصه یابی شدند. درصد بلورینگی و اندازه ذره از XRD مربوط به کامپوزیت گرافن/اکسیدنیکل به ترتیب 66 ٪ و 15.2 نانومتر و برای نانومیله های اکسیدنیکل به ترتیب 77 ٪ و 86.4 نانومتر به دست آمده است .تصویر میکروسکوپ الکترونی انتشار میدان (FESEM)، نانومیله های اکسیدنیکل با قطر متوسط 35 نانومتر و طولی در حدود 100 نانومتر را بر روی گرافن نشان داده است.

کلمات کلیدی:
کامپوزیت گرافن/نانومیله اکسیدنیکل؛ سولووترمال، N- متیل-پیرولیدون

صفحه اختصاصی مقاله و دریافت فایل کامل: https://civilica.com/doc/321384/