بررسی عددی اثر تغییر قطر کانال بر مشخصه نویز فلیکر در ترانزیستور اثرمیدانی نانوسیم نیمههادی سیلیکونی

Publish Year: 1393
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: Persian
View: 1,322

This Paper With 12 Page And PDF Format Ready To Download

  • Certificate
  • من نویسنده این مقاله هستم

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این Paper:

شناسه ملی سند علمی:

DCEAEM01_228

تاریخ نمایه سازی: 18 دی 1393

Abstract:

به کمک شبیهسازیهای رایانهای تاثیر تغییر قطر کانال ترانزیستور اثرمیدانی نانوسیم نیمههادی سیلیکونی بر مشخصه نویز فلیکر این افزاره را بررسی نمودیم. ما در ابتدا به مطالعه مبانی نویز فلیکر و سپس بدست آوردن شیوه محاسبه چگالیطیف توان نویز مذکور درترانزیستورهای نانوسیم نیمههادی پرداخته و در ادامه با استفاده از یک نرمافزار شبیهساز کوانتومی قدرتمند که محاسبات در آن بر اساسروش تابع گرین غیر تعادلی صورت میپذیرد، منحنیهای جریان- ولتاژ ترانزیستور نانوسیم نیمههادی سیلیکونی گیت فراگیر با تغییر قطر کانال، را بدست آوردیم. سپس بهکمک نرمافزار متلب منحنیهای مربوط به چگالی طیف توان نویز فلیکر را بدست آورده و مورد مقایسه و تحلیل قرار دادیم. نتایج حاصل نشان دادند که با ثابت نگاهداشتن سایر مشخصههای افزاره و کاهش قطر کانال نانوسیم سیلیکونی، میزان چگالی طیف توان نویز فلیکر کاهش می یابد که این امر ناشی از کاهش جریان درین در خلال کاهش قطر کانال می باشد.

Keywords:

ترانزیستور اثر میدانی نانوسیم نیمههادی سیلیکونی , گیت فراگیر , چگالی طیف توان نویز , نویز فلیکر , تابع گرین غیرتعادلی

Authors

محمدرضا حریری

دانشجوی کارشناسی ارشد مهندسی برق- الکترونیک، دانشگاه آزاد اسلامی واحد رشت، رشت، ایران

سیدعلی صدیق ضیابری

عضو هیات علمی گروه برق، دانشگاه آزاد اسلامی واحد رودبار، رودبار، ایران

مراجع و منابع این Paper:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود Paper لینک شده اند :
  • J. Mardinly, 2010, Moore law and its effect on microscopy, ...
  • A. Chandrakasan, 2008, FINFETS and Other Multi-Gate Transistors, springer science ...
  • D. Vasileska, 2010, Cutting edge _ technology, In-teh Inc ...
  • H. Narendar, 2008, A Simulation Study of Enhancement mode Indium ...
  • K. Moges, 2011, Modeling Of Silicon Nanowire Field Effect Transistors, ...
  • K.J. Kuhn et al, 2010, Technology Options for 22nm and ...
  • Y. Yuan, 2012, Non-classicat MOSFETs: Design, modeling, and cha racterization ...
  • B.M. Wilamowski and J.D. Irwin, 2011, Fundamentag of Industrial Electronics, ...
  • S. Ju et al, 2008, 1/f noise of Sn O ...
  • S. Ju et al, 2008, Interface studies of ZnO nanowire ...
  • W. Wenyong, 2007, Low frequency noise cha racterizations of ZnO ...
  • S.R. Mehrotra, 2007, A simulation study of silicon nanowire Field-Effect- ...
  • J. Wang, 2005, Device physics and Simulation of Silicon nanowire ...
  • نمایش کامل مراجع