مقایسه خواص ساختاری بس لایه های الکتروانباشت شده Co-Cu/Cu بر روی زیر لایه های Cu , Ti
Publish place: 14th Symposium of Crystallography and Mineralogy of Iran
Publish Year: 1385
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: Persian
View: 2,328
This Paper With 5 Page And PDF Format Ready To Download
- Certificate
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
SCMI14_032
تاریخ نمایه سازی: 29 تیر 1386
Abstract:
در این تحقیق بس لایه های Co-Cu/Cu به روش الکتروانباشت بر ری پلی کریستال Ti, Cu تهیه شدند. الکتروانباشت به صورت پتانسیواستات و در یک الکترولیت تک حمام حاوی نمک های سولفات Co , Cu با سه الکترود انجام شد. ریز ساختار این بس لایه ها توسط طیف XRD موردمطالعه قرار گرفت و در پایان با استفاده از میکروسکوپ الکترونی روبشی خواص سطحی نمونه های ساخته شده بر دو نوع زیر لایه Cu , Ti مورد بررسی و مطالعه قرار می گیرد.
Authors
ایرج کاظمی نژاد
دانشگاه شهید چمران اهواز، دانشکده علوم، گروه فیزیک
مرجان ذاکرین
دانشگاه شهید چمران اهواز، دانشکده علوم، گروه فیزیک
مراجع و منابع این Paper:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود Paper لینک شده اند :