CIVILICA We Respect the Science
(ناشر تخصصی کنفرانسهای کشور / شماره مجوز انتشارات از وزارت فرهنگ و ارشاد اسلامی: ۸۹۷۱)

شبیه سازی دینامیک مولکولی اثر عیوب نقطه ای بر رفتار کششی نانوسیم اکسید روی

عنوان مقاله: شبیه سازی دینامیک مولکولی اثر عیوب نقطه ای بر رفتار کششی نانوسیم اکسید روی
شناسه ملی مقاله: NCNTA03_018
منتشر شده در سومین همایش ملی فناوری نانو از تئوری تا کاربرد در سال 1393
مشخصات نویسندگان مقاله:

شیما قائمی - دانشجوی کارشناسی ارشد مهندسی مواد، دانشگاه صنعتی امیرکبیر
پیروز مرعشی - استادیار دانشکده ی مهندسی معدن و متالورژی، دانشگاه صنعتی امیرکبیر
موفق کاتب - مرکز نانوالکترونیک، دانشکده مهندسی برق و کامپیوتر، دانشگاه تهران آزمایشگاه MEMS و NEMS ، دانشکده مهندسی برق و کامپیوتر، دانشگاه تهران

خلاصه مقاله:
هدف از پژوهش حاضر، بررسی تاثیر وجود عیوب نقطه ای بر رفتار مکانیکی نانوسیم اکسید روی، تحت تنش کششی تک محوری است. به این منظور 4 نانوسیم در دو اندازه ی سطح مقطع مختلف با کمک LAMMPS شبیه سازی شد. مشخص شد که با کاهش سطح مقطع، مدول الاستیک، تنش تسلیم و UTS در نانوسیم اکسید روی افزایش می یابد. همچنین با کاهش سطح مقطع میزان کرنش تا گردنی شدن افزایش می یابد درحالیکه میزان کرنش تا ایجاد گردنی تک اتمی کاهش می یابد. با ایجاد یک جای خالی، تنش تسلیم در نانوسیم نوع اول سطح مقطع بزرگ تر( و نوع دوم )سطح مقطع کوچک تر ثابت ماند، مدول الاستیک در نانوسیم نوع اول ثابت ماند ولی در نانوسیم نوع دوم کاهش پیدا کرد و استحکام کششی نهایی UTS به ترتیب در نانوسیم نوع اول و دوم به میزان 8 و 33 درصد افزایش یافت. همچنین مشخص شد که کرنش شکست در نانوسیم نوع دوم دارای عیب، کم تر از نانوسیم بدون عیب است و در آن برخلاف نانوسیم بدون عیب، استحاله به فاز آمورف اتفاق نمی افتد. در نانوسیم های دارای عیب، میزان کرنش از زمان آغاز تا پایان استحاله، از فاز ورتزیت به فاز BCT-4 ، کم تر از نانوسیم بدون عیب است.

کلمات کلیدی:
نانوسیم، اکسید روی، شبیه سازی دینامیک مولکولی، خواص مکانیکی، عیوب نقطه ای

صفحه اختصاصی مقاله و دریافت فایل کامل: https://civilica.com/doc/391183/