تهیه فیلمهای لایه نازک اکسید روی به عنوان فوتوکاتالیست با تکنیک سل ژل
عنوان مقاله: تهیه فیلمهای لایه نازک اکسید روی به عنوان فوتوکاتالیست با تکنیک سل ژل
شناسه ملی مقاله: TCPCO02_113
منتشر شده در دومین همایش ملی تکنولوژی های نوین در شیمی و پتروشیمی در سال 1394
شناسه ملی مقاله: TCPCO02_113
منتشر شده در دومین همایش ملی تکنولوژی های نوین در شیمی و پتروشیمی در سال 1394
مشخصات نویسندگان مقاله:
مسعود براتی - کارشناسی ارشد فیزیک چگال گروه فیزیک دانشگاه اصفهان اصفهان
فاطمه صفی اقدم - کارشناسی ارشد فیزیک چگال گروه فیزیک دانشگاه سیستان و بلوچستان سیستان و بلوچستان
عثمان خالی پور
خلاصه مقاله:
مسعود براتی - کارشناسی ارشد فیزیک چگال گروه فیزیک دانشگاه اصفهان اصفهان
فاطمه صفی اقدم - کارشناسی ارشد فیزیک چگال گروه فیزیک دانشگاه سیستان و بلوچستان سیستان و بلوچستان
عثمان خالی پور
دراین پژوهش بااستفاده ازروش سل ژل و باتکنیک غوطه وری لایه های نازک اکسیدروی برروی زیرلایه شیشه ای لایه نشانی شدند عملیات نهایی گرمایی دردومرحله صورت گرفت ابتدا تمامی نمونه ها دردمای 275درجه سانتیگراد خشک شدند و سپس برای تعیین دمای بهینه نمونه ها دردماهای 350و450و550 درجه سانتیگراد تحت عملیات بازپخت قرارگرفتند و سپس با استفاده ازانالیز گرمایی tga دمای بهینه برای انجام عملیات بازپخت انتخاب شد به کمک طیف XRD اندازه دانه و مقدارثابت شبکه محاسبه شد و تاثیر دمای بازپخت برروی هر مورد بررسی شد و درنهایت ازفیلمهای تهیه شده به عنوان کاتالیست برای بررسی میزان تخریب الاینده متیل نارنجی MO استفاده شد و تغییرات این فرایند باتعداددفعات لایه نشانی و تغییر دمای بازپخت تحلیل شد نتیجه شد که تغییر ضخامت نمونه ها تغییری درحذف الاینده MO نداشته ولی با افزایش دمای بازپخت این فاکتور بهبود پیدا کرده است
کلمات کلیدی: فیلم نازک /اکسیدروی /کاتالیست ومتیل نارنجی
صفحه اختصاصی مقاله و دریافت فایل کامل: https://civilica.com/doc/391814/