فرمول تحلیلی تغییرات ولتاژ آستانه در ترانزیستور سیلیکون روی الماس دو لایه
Publish place: International Conference on New Research Findings in Electrical Engineering and Computer Science
Publish Year: 1394
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: Persian
View: 991
This Paper With 9 Page And PDF Format Ready To Download
- Certificate
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
COMCONF01_833
تاریخ نمایه سازی: 8 آذر 1394
Abstract:
با اضافه کردن یک لایه عایق نازک دوم روی اکسید سیلیکون در لایه الماس در روش SOD میزان خازن حاشیه ای)پارازیتی(کاهش می یابد.هنگامی که این لایه دوم باعث افزایش DIBL می شود اثر حرارت درونی یک رسانایی گرماییکمی را در لایه اکسید سیلیکون به وجود می آورد.ترانزیستور سیلیکون روی الماس با عایق دو لایه ] 1[ هیچ کدام از معایب افزایش اثرات خودگرمایی و افزایش اثرات کانال کوتاه را ندارد.در واقع این ساختار پیشنهاد شده است تا اثرات کانال کوتاهترانزیستور سیلیکون روی الماس را کاهش دهد.در این ترانزیستور با توجه به عرض ناحیه عایق رویئن ، ولتاژ آستانه تغییرمی کند.چگونگی این تغییرات نیازمند ارائه یک روش تحلیلی می باشد که به طور دقیق وابستگی ولتاژ آستانه به عرض عایق رویئن را نشان می دهد.در این مقاله ما به بررسی این موضوع می پردازیم.
Keywords:
Authors
معصومه احمدیان
دانشگاه آزاد اسلامی واحد نجف آباد
آرش دقیقی
دانشگاه شهرکرد
مراجع و منابع این Paper:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود Paper لینک شده اند :