تأثیر محلول پاشی مقادیر مختلف کود نانو کلات آهن (خضراء) بر عملکرد کمی و کیفی ارقام نخود دیم
Publish place: International Conference of Applied Research in Agriculture
Publish Year: 1394
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: Persian
View: 745
This Paper With 11 Page And PDF Format Ready To Download
- Certificate
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
ICARA01_202
تاریخ نمایه سازی: 20 دی 1394
Abstract:
به منظور بررسی اثرات محلول پاشی نانو کود کلات آهن بر عملکرد کمی و کیفی سه رقم نخود دیم آزمایشی به صورت فاکتوریل با دو عامل در قالب طرح بلوک های کامل تصادفی با سه تکرار در سال زراعی 92-91 در دانشکده کشاورزی دانشگاه لرستان اجرا گردید. عامل اول رقم در سه سطح به نام های آزاد، هاشم و لاین ILC482 و عامل دوم محلول پاشی کود نانو کلات آهن خضراء در چهار سطح عدم محلول پاشی، 1 در هزار، 2 در هزار و 3 در هزار در هکتار بود. نتایج نشان داد که، اثر متقابل رقم در کود آهن بر صفات ارتفاع بوته، طول غلاف، تعداد شاخه فرعی و عملکرد دانه معنی دار شد و بر صفات درصد پوکی غلاف و غلظت آهن دانه نخود تاثیر معنی داری نداشت. عوامل مهم و موثر تشکیل دهنده نخود در این آزمایش تعداد شاخه فرعی و تعداد غلاف در بوته بودند. بالاترین تعداد شاخه فرعی (به مقدار 21/33 عدد) و عملکرد دانه (به میزان 1296 کیلوگرم در هکتار) از اثر متقابل لاین ILC482 در سطح 3 در هزار محلول پاشی نانو کودکلات آهن (C3F4) حاصل شد. همچنین نتایج مقایسه میانگین اثرات متقابل رقم در نانو کود کلات آهن نشان داد در کلیه ارقام با افزایش میزان مصرف کود عملکرد دانه و غلظت آهن دانه افزایش معنی داری یافت.
Keywords:
Authors
یونس میر
دانشجوی کارشناسی ارشد دانشگاه لرستان
ماشااله دانشور
استادیار دانشکده کشاورزی دانشگاه لرستان
فرهاد نظریان فیروز آبادی
دانشیار دانشکده کشاورزی دانشگاه لرستان
بیژن باجلان
مربی آموزشی دانشکده کشاورزی دانشگاه لرستان
مراجع و منابع این Paper:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود Paper لینک شده اند :