CIVILICA We Respect the Science
(ناشر تخصصی کنفرانسهای کشور / شماره مجوز انتشارات از وزارت فرهنگ و ارشاد اسلامی: ۸۹۷۱)

بهینه سازی وتعیین مشخصات غشاهای اولترافیلتراسیون تهیه شده به روش فوتوپلیمریزاسیون اسید اکریلیک بر پایه پلیسولفون : اثر افزودنیهای مختلف روی میزان احتباس نمکها

عنوان مقاله: بهینه سازی وتعیین مشخصات غشاهای اولترافیلتراسیون تهیه شده به روش فوتوپلیمریزاسیون اسید اکریلیک بر پایه پلیسولفون : اثر افزودنیهای مختلف روی میزان احتباس نمکها
شناسه ملی مقاله: IPCONF01_284
منتشر شده در اولین کنفرانس پتروشیمی ایران در سال 1387
مشخصات نویسندگان مقاله:

مسعود امینی - دانشجوی کارشناسی ارشد مهندسی شیمی نساجی دانشگاه صنعتی امیرکبیر
مریم همایونفال - دانشجوی کارشناسی ارشد علوم و فناوری نانو دانشگاه کاشان
مختار آرامی - دانشیار و عضو هیئت علمی دانشگاه صنعتی امیرکبیر
احمد اکبری - استادیار و عضو هیئت علمی دانشگاه کاشان، NanoSciTech. Center, University of Kashan, Kashan, Iran

خلاصه مقاله:
غشاهای پلی سولفون اولتراف یلتراسیون، که از طر یق فرا یند وارونگی فاز ته یه شدند، با تابش اشعه UV در حضور مونومر اس ید اکریلیک ) ) AA ، به ینه می شوند . در محلول پلیمری اول یه شامل 18% پلی سولفون و 78% حلال ) - n متیل پیرولیدون ) ، پلی ات ی لن گل ی کول ) ) PEG با اوزان مولکولی 600 ، 6000 ، 10000 و 20000 به عنوان افزودنی استفاده شد . اثر افزودن PEG و وزن مولکولی آن روی عملکرد و مورفولوژی غشا در حالت اصلاح شده و قبل از اصلاح بررسی شد . مشاهدات عمده بد ی ن شرح می با شند : همه غشاها دارای ساختار غیر متقارن با یک پوسته متراکم و یک لایه پایه ای اسفنجی می باشند . این مساله از مشاهدات SEM روشن می شود؛ با حضور PEG در محلول پل یمری، نفوذپذ یری غشاها افزا ی ش می ی ابد . بنابرای ن PEGعامل ا یجاد کننده حفره می باشد؛ دبی آب خ الص PWF با افزایش وزن مولکولی PEG افزای ش می یابد؛ در عمل یات گرافت با افزا یش غلظت AA در زمان تابش 10 دق یقه، به علت تشک یل زنج ی ره های پلیمری روی سطح ودیواره حفره ها، PWF کاهش می یابد و متناظر با آن با افزایش زمان گرافت در غلظت ثابت AA ، PWF کاهش می یابد؛ افزا یش زمان گرافت و ن یز غلظت AA ، احتباس نمکها ی ی چون سدیم کلرید و سدیم سولفات و ماکروملکولهایی نظ یر PEG را بهبود می بخشد؛ با افزا ی ش لظت AA از 8% به 16% ، م یزان احتباس محلول سدیم کلرید و سدیم سولفات از 4% و 10% به 28% و 36% به ترتیب افزای ش یافت؛ با اندازه گ یری آستانه شکست غشاهای اصلاح شده با اوزان مولکولی مختلف PEG ، مشخص شد که آستانه شکست غشاها در محدوده 10000 تا 20000 دالتون می باشد؛ حضور پ ی ک های کربوکس یل و هیدروکسیل در 1710 و 3300 cm -1 در اسپکتروسکوپی FTIR ، گرافت AA روی پلی سولفون را ثابت می کند؛ تصاویر SEM ، مطابق با انتظار، کاهش تعداد منافذ انگشتی، افزا یش در تعداد آنها و افزا یش اندازه منافذ لایه ز یرین را نشان می دهد در ضمن با رویت تصاویر و کاهش اندازه منافذ با انجام عمل گرافت مشهود است .SEM، افزا یش اندازه منافذ با افزا یش وزن مولکولی PEG و کاهش اندازه منافذ با انجام عمل گرافت مشهود است

کلمات کلیدی:
گرافت UV ، پلی سولفون، اسید اکریلیک، پلی اتیلن گلیکول، احتباس نمکها

صفحه اختصاصی مقاله و دریافت فایل کامل: https://civilica.com/doc/42733/