بهینه سازی وتعیین مشخصات غشاهای اولترافیلتراسیون تهیه شده به روش فوتوپلیمریزاسیون اسید اکریلیک بر پایه پلیسولفون : اثر افزودنیهای مختلف روی میزان احتباس نمکها
عنوان مقاله: بهینه سازی وتعیین مشخصات غشاهای اولترافیلتراسیون تهیه شده به روش فوتوپلیمریزاسیون اسید اکریلیک بر پایه پلیسولفون : اثر افزودنیهای مختلف روی میزان احتباس نمکها
شناسه ملی مقاله: IPCONF01_284
منتشر شده در اولین کنفرانس پتروشیمی ایران در سال 1387
شناسه ملی مقاله: IPCONF01_284
منتشر شده در اولین کنفرانس پتروشیمی ایران در سال 1387
مشخصات نویسندگان مقاله:
مسعود امینی - دانشجوی کارشناسی ارشد مهندسی شیمی نساجی دانشگاه صنعتی امیرکبیر
مریم همایونفال - دانشجوی کارشناسی ارشد علوم و فناوری نانو دانشگاه کاشان
مختار آرامی - دانشیار و عضو هیئت علمی دانشگاه صنعتی امیرکبیر
احمد اکبری - استادیار و عضو هیئت علمی دانشگاه کاشان، NanoSciTech. Center, University of Kashan, Kashan, Iran
خلاصه مقاله:
مسعود امینی - دانشجوی کارشناسی ارشد مهندسی شیمی نساجی دانشگاه صنعتی امیرکبیر
مریم همایونفال - دانشجوی کارشناسی ارشد علوم و فناوری نانو دانشگاه کاشان
مختار آرامی - دانشیار و عضو هیئت علمی دانشگاه صنعتی امیرکبیر
احمد اکبری - استادیار و عضو هیئت علمی دانشگاه کاشان، NanoSciTech. Center, University of Kashan, Kashan, Iran
غشاهای پلی سولفون اولتراف یلتراسیون، که از طر یق فرا یند وارونگی فاز ته یه شدند، با تابش اشعه UV در حضور مونومر اس ید اکریلیک ) ) AA ، به ینه می شوند . در محلول پلیمری اول یه شامل 18% پلی سولفون و 78% حلال ) - n متیل پیرولیدون ) ، پلی ات ی لن گل ی کول ) ) PEG با اوزان مولکولی 600 ، 6000 ، 10000 و 20000 به عنوان افزودنی استفاده شد . اثر افزودن PEG و وزن مولکولی آن روی عملکرد و مورفولوژی غشا در حالت اصلاح شده و قبل از اصلاح بررسی شد . مشاهدات عمده بد ی ن شرح می با شند : همه غشاها دارای ساختار غیر متقارن با یک پوسته متراکم و یک لایه پایه ای اسفنجی می باشند . این مساله از مشاهدات SEM روشن می شود؛ با حضور PEG در محلول پل یمری، نفوذپذ یری غشاها افزا ی ش می ی ابد . بنابرای ن PEGعامل ا یجاد کننده حفره می باشد؛ دبی آب خ الص PWF با افزایش وزن مولکولی PEG افزای ش می یابد؛ در عمل یات گرافت با افزا یش غلظت AA در زمان تابش 10 دق یقه، به علت تشک یل زنج ی ره های پلیمری روی سطح ودیواره حفره ها، PWF کاهش می یابد و متناظر با آن با افزایش زمان گرافت در غلظت ثابت AA ، PWF کاهش می یابد؛ افزا یش زمان گرافت و ن یز غلظت AA ، احتباس نمکها ی ی چون سدیم کلرید و سدیم سولفات و ماکروملکولهایی نظ یر PEG را بهبود می بخشد؛ با افزا ی ش لظت AA از 8% به 16% ، م یزان احتباس محلول سدیم کلرید و سدیم سولفات از 4% و 10% به 28% و 36% به ترتیب افزای ش یافت؛ با اندازه گ یری آستانه شکست غشاهای اصلاح شده با اوزان مولکولی مختلف PEG ، مشخص شد که آستانه شکست غشاها در محدوده 10000 تا 20000 دالتون می باشد؛ حضور پ ی ک های کربوکس یل و هیدروکسیل در 1710 و 3300 cm -1 در اسپکتروسکوپی FTIR ، گرافت AA روی پلی سولفون را ثابت می کند؛ تصاویر SEM ، مطابق با انتظار، کاهش تعداد منافذ انگشتی، افزا یش در تعداد آنها و افزا یش اندازه منافذ لایه ز یرین را نشان می دهد در ضمن با رویت تصاویر و کاهش اندازه منافذ با انجام عمل گرافت مشهود است .SEM، افزا یش اندازه منافذ با افزا یش وزن مولکولی PEG و کاهش اندازه منافذ با انجام عمل گرافت مشهود است
کلمات کلیدی: گرافت UV ، پلی سولفون، اسید اکریلیک، پلی اتیلن گلیکول، احتباس نمکها
صفحه اختصاصی مقاله و دریافت فایل کامل: https://civilica.com/doc/42733/