بهینه سازی ضخامت های لایه پوشش ضدبازتابش در کلکتورهای خورشیدی با استفاده از الگوریتم ژنتیک

Publish Year: 1394
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: Persian
View: 344

متن کامل این Paper منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل Paper (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.

  • Certificate
  • من نویسنده این مقاله هستم

این Paper در بخشهای موضوعی زیر دسته بندی شده است:

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این Paper:

شناسه ملی سند علمی:

IEAC02_275

تاریخ نمایه سازی: 19 اردیبهشت 1395

Abstract:

پوشش های ضد بازتابش امروزه به طور گسترده ای درصنایع کاربرد دارد. یکی از مهمترین این کاربردها استفاده از آن در کلکتورهای خورشیدی به منظور جذب نور است. پوشش های مورد استفاده به منظور جذب طیف وسیعی از نور خورشید به صورت چندلایهساخته می شوند. هدف از این مقاله بهینه سازی ضخامت این لایه ها به منظور جذب حداکثر در طیف IR خورشید با توجه به شدت هر فرکانس می باشد. در ابتدا مدلسازی از جذب در پوششی با لایه های TiNx ، TiOxNy و SiO2 بر روی بستری از مس انجام شده و سپس بهینه سازی با استفاده از الگوریتم ژنتیک برای تعیین ضخامت بهینه انجام شده است.ضخامت بدست آمده برای لایه ها به ترتیب برابر با 30و17و60نانومتر می باشد

Keywords:

چند لایه های جاذب , مدلسازی جذب , کلکتور خورشیدی

Authors

رقیه قاسم پور

دانشگاه تهران، دانشکده علوم و فنون نوین

سیدعلی فرهمند

دانشگاه تهران، دانشکده علوم و فنون نوین