محمد مهدی صادقی - دانشگاه آزاد اسلامی، واحد شاهرود، گروه مهندسی شیمی، شاهرود، ایران
مهرداد منطقیان - هیئت علمی گروه مهندسی شیمی، دانشکده فنی - مهندسی، دانشگاه تربیت مدرس، تهران
محسن نصرتی - هیئت علمی گروه مهندسی شیمی، دانشکده فنی - مهندسی، دانشگاه تربیت مدرس، تهران

در این مطالعه، زمان القا جهت هسته زایی نانوذرات سولفات پتاسیم در دمای 25 درجه سانتیگراد و فوق اشباع های مختلف با استفاده از ضد حلال استون اندازه گیری شد. همچنین حجم مصرفی استون برای هسته زایی، به تنهایی و درحضور ماده فعال سطحی ستیل تری متیل آمونیوم برمید (CTAB) و سیترات سدیم مورد آزمون قرار گرفت . همچنین کشش سطحی نانوذرات سولفات پتاسیم در حضور سورفکتانت CTAB با استفاده از نظریه کلاسیک هسته زایی، محاسبه شده است. نتایج حاصل از آن بود که در حضور استون با افزایش میزان فوق اشباعی، زمان القا نیز افزایش می یابد. لیکن درحضور سورفکتانت CTAB با افزایش فوق اشباعی، زمان القا کمتر می شود. در رابطه با کشش سطحی نیز، درحضور CTAB با افزایش غلظت سولفات پتاسیم، کشش سطحی کاهش یافت. بطور کلی با ارزیابی مطالعات انجام شده، می توان گفت که حضور افزودنی ، نهایتا به صورت تغییری در عوامل اصلی یعنی فوق اشباع و کشش سطحی خود را نشان داده و منجر به تغییر زمان القا میگردند. همچنین با استفاده از میکروسکوپ الکترونی عبوری (TEM) از نمونه در حضور سورفکتانت CTAB عکس برداری شد و مشخص شد که نانوذره تشکیل گردید.

هسته زایی، زمان القا، فوق اشباع، سورفکتانت، سولفات پتاسیم