بررسی ممانعت کنندگی دو شیف باز جدید بر روی مس در اید سولفوریک نیم مولار
Publish place: 11th Congress of the Iranian Metallurgical Society
Publish Year: 1386
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: Persian
View: 1,640
This Paper With 10 Page And PDF Format Ready To Download
- Certificate
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
CIMS11_058
تاریخ نمایه سازی: 24 اردیبهشت 1387
Abstract:
مطالعه ازدارندگی دو شیف باز با نامهای bis-(2-hydroxy-3-methoxy)-1,6-diaminohexane salicyladimine و bis-(2-hydroxy)-1,6-diaminohexane salicyladimine روی مس در اسید سولفوریک نیم مولار با استفاده از روشهای الکتروشیمیایی (AC امپدانس و پلاریزاسیون تافل) انجام شده است. نتایج بدست آمده از منحنی های نایکوئیست نشان می دهد که افزایش غلظت این دو شیف باز باعث افزایش مقاومت انتقال بار و کاهش ظرفیت لایه دو گانه و در نتیجه باعث افزایش راندمان حفاظت آنها برای مس در اسید سولفوریک نیم مولار شده است. این دو شیف باز ممانعت کننده های مناسبی برای مس در اسید سولفوریک نیم مولار هستند و هر دو ماده از نوع ممانعت کننده های آندی می بشند و به صورت جذب شیمیایی بر روی سطح مس مانع از خوردگی آن می شوند و این دو شیف باز از جذب ایزوترم لانگمیر پیروی می کنند.
Keywords:
Authors
فاطمه بقایی راوری
عضو هیئت علمی بخش مهندسی متالورژی دانشگاه شهید باهنر کرمان
اطهره دادگری نژاد
عضو هیئت علمی بخش مهندسی متالورژی دانشگاه شهید باهنر کرمان