سیدارمین زارع استخرجی - کارشناسی ارشد دانشکده فنی مهندسی دانشگاه علوم و تحقیقات تهران
پریسا طیبی - دانشجوی کارشناسی ارشد دانشکده فنی و مهندسی دانشگا علوم و تحقیقات تهران

فیلمهای کامپوزیتی TiO2/SiO2 و ZnO/SiO2 با روش لایه نشانی غوطه وری سل – ژل تهیه شده ند مورفولوژی سطح ساختار کریستالی فیلمهای نازک و خصوصیات نانوذرات سنتز شده ZnO/SiO2 و SiO2/TiO2 با استفاده از طیف سنجی UV مرئی میکرسکوپ الکترونی روبیش SEM با آنالیز پراش اشعه ایکس المانی EDX و پراش اشعه ایکسXRD بررسی شد. تصاویر FESEM نشان داد که پوشش SiO2 روی نانوذرات باعث افزایش اندازه آن ها تا حدود 30 nm شده است. به منظور فعالیت فوتوکاتالیستی از طریق بررسی تخریب شده و بدون رنگ شدن رنگینه آزوی Congo Red (CR) با نور UV مصنوعی انجام شد که فعالیت فتوکاتالیستی هر دو نوع نانوذرات SiO2 تا حدودی کاهش داشت. با این حال فعالیت فتوکاتالیستی نانوذرات ZnO بعد از پوشش دهی با SiO2 بطور کامل از بین رفت.

لاتین ZnO/SiO2، TiO2/SiO2 سنتز سل، ژل، فتوکاتالیست