طراحی و ساخت دستگاه کندوپاش مغناطیسی جریان مستقیم با دو تارگت استوانه ای

Publish Year: 1385
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: Persian
View: 1,859

This Paper With 11 Page And PDF Format Ready To Download

  • Certificate
  • من نویسنده این مقاله هستم

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این Paper:

شناسه ملی سند علمی:

ISSE07_090

تاریخ نمایه سازی: 29 خرداد 1387

Abstract:

دستگاه کندوپاش مغناطیسی با دوتارگت جهت تهیه لایه های نازک چند پشته به ویژه لایه های نازک جاذب انرژی خورشیدی (سرمت) طراحی و ساخته شد . این دستگاه از اجزاء و قسمت های مختلفی شامل محفظه استوانه ای و تجهیزات آن، دو تارگت استوانه ای (کاتد) و تجهیزات مربوط به آن و نگهدا رنده زیر لایه و اجزاء آن تشکیل شده است. محفظه خلاء استوانه ای از جنس فولاد زنگ نزن با طول 650 و قطر داخلی 550 میلی متر است . این سیستم لایه نشانی شامل دو تارگت استوانه ای به طول 550 و قطر 50 میلیمتر میباشد که به طور مستقل عمل می کنند. داخل هر تارگت لوله ای، آهنرباهائی دائمی حلقوی شکل با شدت میدان مغناطیسی 290 گوس قرار دارند . در طی عمل لایه نشانی زیر لایه ها روی نگهدارنده نصب میگردند و برای تشکیل پوشش های یکنواخت زیرلایه ها به دور محور محفظه می چرخند . چرخش نگهدارنده زیرلایه ها توسط موتوری با دور متغیر و قابل تنظیم (18-3 دور در دقیقه) انجام میگیرد . جهت تغذیه سیستم پراکنش از دو منبع تغذیه با ورودی سه فاز برق شهر و خروجی DC منفی با ولتاژ قابل تنظیم 1000V- و جریان حداکثر 12A آمپر استفاده میشود. طراحی منبع تغذیه مخصوص محیط پلاسما بوده و به گونه ای است که در موقع عمل لایه نشانی دارای پایداری در توان بالا و ثبات ولتاژ خروجی در حین کار و عملکرد مناسب در مقابل جریان های لحظه ای شدید است . چند لایه های نازک آلومینیم و مس روی زیرلایه های شیشه ای در فشا ر 1 پاسکال و جریان کاتد 4 آمپر و ولتاژ کاتد 600 ولت انباشت شده است . آنالیزهای پراش اشعه ایکس (XRD) و میکروسکوپ الکترونی روبشی (SEM) برای تعیین فازهای کریستالی و مطالعه مرفولوژی لایه ها مورد استفاده قرار گرفته است . پروفایل عناصر توسط دستگاه اسپکتروسکوپی نشری تخلیه نورانی (GD-OES) تعیین گردیده است.

Authors

ضرغام اسداللهی

مرکز تحقیقات هسته ای کرج

پروین بلاش آبادی

مرکز تحقیقات هسته ای کرج

عبدالجواد نوین روز

مرکز تحقیقات هسته ای کرج

محمد رضا قاسمی

مرکز تحقیقات هسته ای کرج

مراجع و منابع این Paper:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود Paper لینک شده اند :
  • Qi-Chu Zhang _ Yongbai Yin _ David R.Mills _ High ...
  • Q-C Zhang, Direct Current Magnetron sputtered W-AlN Cermet Selective Surfaces, ...
  • Q-C Zhang, Stainless Steel - AlN Cermet Selective Surfaces by ...
  • Qi-Chu Zhang and David R.Mills, New Cermet Film Structures With ...
  • Qi-Chu Zhang , Metal- AlN cermet Solar Selective Coatings Deposited ...
  • Qi-Chu Zhang _ K.Zh , B.C Zhang _ L.F.Wang _ ...
  • A.S.Penfold and J.A.Thornton , U.S.Patent 3884793 (1975) ...
  • A.S.Penfold and J.A.Thornton , U.S.Patent 3995187 (1977) ...
  • A.S.Penfold and J.A.Thornton , U.S.Patent 4030996 (1977) ...
  • A.S.Penfold and J.A.Thornton _ U.S.Patent 4031424 (1977) ...
  • A.S.Penfold and J.A.Thornton _ U.S.Patent 4041353 (1977) ...
  • Ding; Peijun;Tao; Rong;Xu; Zheng , Auxiliary magnet array in conjunction ...
  • _ kumar , Nalin _ Cylindrical magnetron sputtering system , ...
  • l] Hawton, Jr.; John T;Shumate; William G., Cylindrical magnetron sputtering ...
  • Penfold; Alan S;Thornton; John A., Electrode type glow discharge apparatus, ...
  • Kuriyama; Noboru, Sputtering device , U.S.Patent 4221652 , 1980 ...
  • Konstantin K. Tezatzov, Alexander S. Gorodetsky , Method and apparatus ...
  • Rointan F.Bunshah _ Deposition Technologies for Films and Coatings , ...
  • D.S Rickeryby , A. Matthews, Advanced surfaces coatings: A Handbook ...
  • John L. Jossen _ Werner Kern , Thin Film Processes ...
  • _ _ _ _ _ _ apparatus , U.S.Patent 6881310, ...
  • نمایش کامل مراجع