CIVILICA We Respect the Science
(ناشر تخصصی کنفرانسهای کشور / شماره مجوز انتشارات از وزارت فرهنگ و ارشاد اسلامی: ۸۹۷۱)

بررسی اثرPH برروی راندمان حذف فوتوکاتالیستی متیل اورانژ با استفاده ازنانوذرات دی اکسیدقلع

عنوان مقاله: بررسی اثرPH برروی راندمان حذف فوتوکاتالیستی متیل اورانژ با استفاده ازنانوذرات دی اکسیدقلع
شناسه ملی مقاله: MMAT02_069
منتشر شده در دومین کنفرانس ملی مکانیک - مواد و فناوری های پیشرفته در سال 1395
مشخصات نویسندگان مقاله:

صدیقه عباسی - استادیار مجتمع آموزش عالی فنی و مهندسی اسفراین اسفراین ایران
مریم حسن پور - مربی حق التدریس مجتمع آموزش عالی فنی و مهندسی اسفراین اسفراین ایران

خلاصه مقاله:
دراین تحقیق اثرpH برروی فعالیت فتوکاتالیست های نانوذرات snO2 مورد بررسی و مطالعه قرار گرفت براساس نتایج حاصل شده مشخص میشود که راندمان حذف متیل اورانژ باتوجه به زمان تابش دهی درطول ازمایش افزایش می یابد همچنین بررسی تاثیر Ph برروی راندمان حذف الاینده متییل اورانژ نشان میدهد که میزان فعالیت فتوکاتالیستی نانوذرات sno2 مورد بررسی درسوسپانسیون با pH خنثی pH=7 بالاتر ازpH اسیدی pH=4 و شرایط قلیایی pH=10 می باشد نتایج حاصل ازتجزیه و تحلیل اماری نیز نشان میدهد که زمان تابش و pH تاثیر قابل توجه معنی داری برروی فعالیت فتوکاتالیستی همه نانوذرات sno2 دارد براساس نتایج ازمون (  0.05) Duncan’s میتوان تایید کرد که تفاوت قابل توجهی میان مقادیر مختلف pH وجود دارد

کلمات کلیدی:
نانوذرات sno2، فعالیت فتوکاتالیستی ، آنالیز آماری

صفحه اختصاصی مقاله و دریافت فایل کامل: https://civilica.com/doc/554437/