CIVILICA We Respect the Science
(ناشر تخصصی کنفرانسهای کشور / شماره مجوز انتشارات از وزارت فرهنگ و ارشاد اسلامی: ۸۹۷۱)

بررسی و مقایسه موبیلیتی ترانزیستور بر مبنای Si و MoS2 لایه نازک

عنوان مقاله: بررسی و مقایسه موبیلیتی ترانزیستور بر مبنای Si و MoS2 لایه نازک
شناسه ملی مقاله: BPJCEE01_121
منتشر شده در اولین همایش ملی مهندسی برق باشگاه پژوهشگران جوان و نخبگان در سال 1395
مشخصات نویسندگان مقاله:

سمیه عمرانی - دانشگاه آزاد اسلامی واحد یزد
فرحناز ذاکریان - دانشگاه آزاد اسلامی واحد یزد
مجید پوراحمدی - دانشگاه آزاد اسلامی واحد یزد

خلاصه مقاله:
با توجه به اینکه تکنولوژی به سمت کمتر شدن حجم می رود هدف از انجام این مقاله استفاده از این مواد در ادوات نیمه هادی مورد استفاده در مدارهای مجتمع مانند ترانزیستور است. بر خلاف گرافن، باند گپ پایین (1-ev2) موجود در لایه های نیمه هادی مولبیدن دی سولفات که بوسیله مهندسی موبیلیتی آن افزایش یافته است یک جذابیت دست یافتنی برای استفاده از ترانزیستورهای اثر میدان مولبیدن دی سولفات تک لایه با لایه عایق اضافی high-K است که می تواند محدودیت های تجاری سازی آنرا توجیه کند.

کلمات کلیدی:
خواص الکترونیکی، سیلیسن، MoS2 تک لایه، Si/MoS2

صفحه اختصاصی مقاله و دریافت فایل کامل: https://civilica.com/doc/567440/