روشی نوین برای مطالعه واجذب اکسیژن در لایه نشانی لیزر پالسی اکسید تنگستن به وسیله داده برداری دامنه زمانی از افت وخیزهای مقاومت لایه در خلاء

Publish Year: 1386
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: Persian
View: 1,484

متن کامل این Paper منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل Paper (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.

  • Certificate
  • من نویسنده این مقاله هستم

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این Paper:

شناسه ملی سند علمی:

NCV03_003

تاریخ نمایه سازی: 1 شهریور 1387

Abstract:

لایه های اکسید تنگستن به روش لایه نشانی لیزر پالسی در محیط اکسیژن و همچنین در خلا ساخته شدند. با استفاده از XPS معلوم شد. نمونه اول حالت W+6 و با نسبت O/w=3 و دمی حالت های به صورت W+4>W+5>W+6

Authors

مهدی رنجبر

دانشکده فیزیک

اعظم ایرج یزاد

دانشکده فیزیک، پژوهشکده نانو دانشگاه صنعتی شریف

سید محمد مهدوی

دانشکده فیزیک