روشی نوین برای مطالعه واجذب اکسیژن در لایه نشانی لیزر پالسی اکسید تنگستن به وسیله داده برداری دامنه زمانی از افت وخیزهای مقاومت لایه در خلاء

مهدی, رنجبر; اعظم, ایرج یزاد; سید محمد, مهدوی

روشی نوین برای مطالعه واجذب اکسیژن در لایه نشانی لیزر پالسی اکسید تنگستن به وسیله داده برداری دامنه زمانی از افت وخیزهای مقاومت لایه در خلاء

عنوان مقاله: روشی نوین برای مطالعه واجذب اکسیژن در لایه نشانی لیزر پالسی اکسید تنگستن به وسیله داده برداری دامنه زمانی از افت وخیزهای مقاومت لایه در خلاء
شناسه ملی مقاله: NCV03_003
منتشر شده در سومین کنفرانس ملی خلاء در سال 1386

مشخصات نویسندگان مقاله:

مهدی رنجبر - دانشکده فیزیک
اعظم ایرج یزاد - دانشکده فیزیک، پژوهشکده نانو دانشگاه صنعتی شریف
سید محمد مهدوی - دانشکده فیزیک

خلاصه مقاله:

لایه های اکسید تنگستن به روش لایه نشانی لیزر پالسی در محیط اکسیژن و همچنین در خلا ساخته شدند. با استفاده از XPS معلوم شد. نمونه اول حالت W+6 و با نسبت O/w=3 و دمی حالت های به صورت W+4>W+5>W+6

صفحه اختصاصی مقاله و دریافت فایل کامل: https://civilica.com/doc/57225/