آرش طریقی - کارشناس ارشد دانشکده مهندسی و علم مواد دانشگاه صنعتی شیراز
علی مشرقی - استادیار دانشکده مهندسی و علم مواد دانشگاه صنعتی شیراز

پارامترهای دستگاهی پیرولیز پاششی شامل دمای لایه نشانی, فشار گاز حامل و فاصله ی نازل تا زیرلایه از عوامل تاثیرگذار بر خواص لایه نازک اکسید قلع آلاییده با فلویور است. به منظور لایه نشانی FTO بر روی شیشه نوری، دستگاه لایه نشانی پیرولیز پاششی طراحی و ساخته شد. با هدف بررسی اثر پارامترهای دستگاهی بر فرآیند لایه نشانی، در ابتدا نرخ جریان محلول معادل min/ml 6 ،فشار گازحامل atm 5/0 و فاصله نازل تا زیرلایه cm 30 به عنوان پارامترهای اولیهی دستگاهی در نظر گرفته شد. سپس اثر دما بر خواص الکتریکی لایه نازک بررسی شد. با افزایش دما تا C 500 ،مقاومت سطحی لایه های نازک FTO کاهش یافت و دمای مناسب برای لایه نشانی C 500 بدست آمد. در ادامه نیز با تغییر مقادیر فشار گاز حامل در حین ثابت بودن سایر پارامترهای دستگاهی، اثر این پارامتر بر رسانایی الکتریکی پوشش FTO نیز بررسی شد. فشار گاز بالا (1 ،5/1 و 5/2 اتمسفر) باعث پراکندن بیشتر قطرات پاشش و کاهش مقاومت سطحی پوشش شد و فشار گاز حامل atm 7/0 به عنوان فشار گاز حامل با کمتریت مقاومت سطحی شناسایی شد. با افزایش فاصله ی نازل تا زیرلایه مقدار مقاومت سطحی با توجه به افت نرخ لایه نشانی کاهش یافت. فاصله ی نازل تا زیرلایه 30cm به دلیل شفافیت نوری قابل ملاحظه ی پوشش به عنوان فاصله مطلوب زیرلایه تا نازل به دست آمد.

اکسید قلع آلاییده با فلویور، پیرولیز پاششی، مقاومت سطحی، شفافیت نوری