بررسی انرژی آزاد فلز مس پوشش داده شده به وسیله شیف باز در محیط اسیدی

Publish Year: 1395
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: Persian
View: 362

This Paper With 9 Page And PDF Format Ready To Download

  • Certificate
  • من نویسنده این مقاله هستم

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این Paper:

شناسه ملی سند علمی:

THCONF01_190

تاریخ نمایه سازی: 18 تیر 1396

Abstract:

در این تحقیق، از شیف باز سالپن N-N بیس سالیسیدن -1 و 3- دی آمینو پروپان به صورت لایههای نازک خودمجموعه ساز SAM به منظور حفاظت در برابر خوردگی مس در محیط اسید نیتریک یک مولار استفاده شده است. فیلم SAM از غوطه ور کردن نمونه مس در محلولهای ppm 500 و ppm 1000 شیف باز در الکل تهیه شد و مقاومت در برابر خوردگی آن در محلول اسید نیتریک یک مولار در محلول هوادهی شده مورد بررسی قرار گرفت. نتایج کاهش وزن نشان داد که این پوشش لایه نازک حاصل از محلول ppm 1000 شیف باز در دمای 50 درجه سانتی گراد در محیط اسید نیتریک یک مولار دارای حفاظت در برابر خوردگی بیش از 94 درصد میباشد. همچنین نتایج آزمایشگاهی ایزوترم لانگمویر نشان داد عملکرد پوششهای فوق از نوع مختلط میباشد. با استفاده از تصاویر SEM عملکرد سطحی شیف باز بر روی سطح نمونه مس بررسی شد. این تکنیک تشکیل فیلم لایه نازک شیف باز را نشان میدهد.

Keywords:

خوردگی , لایه های نازک خود مجموعه ساز , پلاریزاسیون , امپدانس الکتروشیمیایی

Authors

امید حیدرزاده

مرکز تحقیقات مواد پیشرفته، دانشکده مهندسی مواد، واحد نجف آباد، دانشگاه آزاد اسلامی، نجف آباد، ایران

مجتبی نصر اصفهانی

مرکز تحقیقات مواد پیشرفته، دانشکده مهندسی مواد، واحد نجف آباد، دانشگاه آزاد اسلامی، نجف آباد، ایران

احسان صایب نوری

مرکز تحقیقات مواد پیشرفته، دانشکده مهندسی مواد، واحد نجف آباد، دانشگاه آزاد اسلامی، نجف آباد، ایران