تاثیر عوامل سطحی آنیونی و کاتیونی بر رسوب دهی الکتروشیمیایی پوشش نانوماده ی مرکب نیکل- نیترید تیتانیم

رسوب دهی الکتروشیمیایی مواد مرکب، روشی کم هزینه و دما پایین است که برای ساخت پوشش های ماده ی مرکب زمینه فلزی استفاده می شود. در این تحقیق، از عوامل سطحی آنیونی سدیم دودسیل سولفات و کاتیونی ستیل تری متیل آمونیم در غلظت های مختلف، به عنوان افزودنی در پوشش نیکل- نیترید تیتانیم استفاده شد. افزون بر این، از حمام واتس به عنوان حمام آبکاری استفاده شد و غلظت ذرات، چگالی جریان و سرعت تلاطم الکترولیت به ترتیب برابر با 4A/dm²، 30g/lit و 450rpm انتخاب شد. نتایج نشان دادند که عامل سطحی آنیونی نسبت به کاتیونی، سبب حضور بیشتر ذرات در پوشش ماده ی مرکب می شود. افزایش غلظت سدیم دودسیل سولفات تا مقدار بهینه، منجر به پراکندگی یکنواخت تر و بیش تر نانوذرات در پوشش ها شد. سختی پوشش نیکل خالص و نانوماده ی مرکب بهینه حاوی سدیم دودسیل سولفات، با استفاده از دستگاه AFM اندازه گیری شد و نتایج نشان دادند که سختی پوشش در حضور ذرات، از 1/86 به 3/23 گیگاپاسکال افزایش می یابد و افزون بر این، مقاومت به سایش هم افزایش می یابد.

Keywords:

نانوماده ی مرکب , عوامل سطحی آنیونی و کاتیونی , سدیم دودسیل سولفات , ستیل تری متیل آمونیم برمید