شیده کبیری عامری ابو ترابی - آزمایشگ
نسرین خزامی پور - آزمایش
ابراهیم اصل سلیمانی - آزمایشگاه تحقیقاتی لایه های نازک ، گروه مهندسی برق و کامپیوتر ، دانشک
شمس الدین مهاجر زاده - آزمایشگاه تحقیقاتی لایه های نازک ، گروه مهندسی برق و کامپیوتر ، دانشک

در این تحقیق لایه های نازک اکسید روی (ZNO) با توانهای مختلف بر روی لایه هایی از آلومینا (Al2o3) به شیوه کندو پاش RF لای هنشانی شده و ساختار کریستالی مورفولوژی سطح مقاومت ویژه عبور نوری لایه ها در ناحیه مرئی به ترتیب توسط آنالیزهای ؛ XRD. SEM اندازه گیری مقاومت و طیف سنجی UV/VIS/IR بررسی شده است . نتایج نشان می دهد که با افزایش توان عبور نوری لایه های اکسید روی در ناحیه مرئی افزایش و شدت کریستالی لایه ها کاهش می یابد . رشد لایه ها در جهت کریستالی (002) بوده و کمترین مقاومت ویژه مربوط به لایه های اکسید روی لایه نشانی شده با توان 150وات می باشد

آلومینا ، اکسید روی ، کند و پاش ، لایه های نازک