بررسی رفتار ویسکوالاستیک غیرخطی دوگانه لاستیک استایرن بوتادیان پرشده بامقادیر مختلف نانو سیلیکا

حضور مقدار زیاد پرکننده در لاستیک، باعث وابستگی مدول دینامیک به دامنه ی کرنش میشود. برای کاهش مدول اتلافی در دامنه ی کرنش غلتشی تایر، شناخت ماهیت این پدیده ضروری است. بنابراین ریخت شناسی و توزیع اندازه ی خوشه های نانوسیلیکا در لاستیک استایرن بوتادیان و رابطه آن با رفتار ویسکوالاستیک غیرخطی بررسی و مدل سازیشد. توزیع و پخش نانوسیلیکا در لاستیک ، مدول ذخیره، مدول اتلافی و ضریب اتلاف نسبت به دامنه ی کرنش در لاستیک استایرن بوتادیان پرشده با مقادیر 0، 4، 8، 16 و 20 قسمت وزنی از نانوسیلیکا به لاستیک ساخته شده به روش اختلاط محلولی بررسی شد. افزایش مقدار نانوسیلیکا در لاستیک، احتمال تشکیل خوشه های بزرگتر را افزایشداد و توزیع اندازه ی خوشه های نانوسیلیکا در لاستیک را دوگانه کرد که موجب دوگانگی رفتار ویسکوالاستیک غیرخطی شد. نتایج مدل سازی پدیده ی پین نشان داد که تغییر ثابت های مدل کراوس با تغییر مقردار نانوسیلیکا تنها وابسته به تغییر برهمکنش های پلیمر پرکننده در سطح مشترک و پلیمر پلیمر در فاز میانی است.

Keywords:

نانوسیلیکا , ویسکوالاستیک غیرخطی , لاستیک , استایرن بوتادیان رابر , پدیده ی پین