واکاوی تکنولوژی ساخت ترانزیستورهای CMOS سیلیکونی با رویکرد کاهش ابعاد در مقیاس نانو

Publish Year: 1396
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: Persian
View: 1,198

This Paper With 12 Page And PDF Format Ready To Download

  • Certificate
  • من نویسنده این مقاله هستم

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این Paper:

شناسه ملی سند علمی:

ITCT04_085

تاریخ نمایه سازی: 17 آبان 1396

Abstract:

پیشرفت های اخیر صورت گرفته در حوزه طراحی مدارت VLSI نشان می دهد که ترانزیستورهای CMOS سیلیکونی در طول سالیان متمادی پتانسیل زیادی جهت فرآیند کوچک سازی و کاهش ابعاد در راستای تحقق قانون گوردن مور از خود نشان داده اند . مهمترین ویژگی های عملکردی این قبیلترانزیستورها در مقایسه با همتایان، تداوم افزایش سرعت عملکرد و کاهش توان تلفاتی همگام با روند کوچک سازی ابعاد در مقیاس نانو می باشد. اما با وجود مزایایی که در فرآیند کوچک سازی این قبیل ترانزیستورها رخ می دهد محدودیت های گسترده ای نیز ناشی از این امر پدید می آید که بیشتر اینمحدودیت ها از دیدگاه کوانتومی مطرح می گردد. از اینرو با ظهور تکنولوژی های جدید از قبیل ترانزیستورهای نانو لوله کربنی و رفع بسیاری از چالش های مطرح شده توسط آنها می توان انتظار داشت که در آینده ای نزدیک باید شاهد پایان عمر ترانزیستورهای CMOS سیلیکونی باشیم

Authors

علیرضا خلیلی

گروه مخابرات، دانشکده مهندسی برق ، دانشگاه پدافند هوایی خاتم الانبیا(ص)، تهران

روح الله روحانی فر

مدرس گروه الکترونیک، دانشکده مهندسی برق، دانشگاه پدافند هوایی خاتم الانبیا(ص)تهران

سیدوحید حسینی

مدرس گروه الکترونیک، دانشکده مهندسی برق، دانشگاه پدافند هوایی خاتم الانبیا(ص)تهران