بررسی تأثیر فرآیند بازپخت بر آستانه ی آسیب لیزری پوشش های نابازتابنده لیزری در طول موج 1064 نانومتر
عنوان مقاله: بررسی تأثیر فرآیند بازپخت بر آستانه ی آسیب لیزری پوشش های نابازتابنده لیزری در طول موج 1064 نانومتر
شناسه ملی مقاله: ISSE10_068
منتشر شده در دهمین سمینار ملی مهندسی سطح و عملیات حرارتی در سال 1388
شناسه ملی مقاله: ISSE10_068
منتشر شده در دهمین سمینار ملی مهندسی سطح و عملیات حرارتی در سال 1388
مشخصات نویسندگان مقاله:
حسین زابلیان - شرکت صنایع اپتیک اصفهان
حمیدرضا رهنما فلاورجانی - شرکت صنایع اپتیک اصفهان
محسن غلامعلیان - شرکت صنایع اپتیک اصفهان
خلاصه مقاله:
حسین زابلیان - شرکت صنایع اپتیک اصفهان
حمیدرضا رهنما فلاورجانی - شرکت صنایع اپتیک اصفهان
محسن غلامعلیان - شرکت صنایع اپتیک اصفهان
در این مقاله به تأثیر فرایند بازپخت بر تغییر ویژگی های طیفی و آستانه ی آسیب لیزری پوشش های نابازتابنده در طول موج 1064 نانومتر پرداخته شده است . پوشش های نابازتابنده SiO2/Ta2O5/MgF2 به روش تبخیر فیزیکی در خلاء و بر روی بستره های مختلف لایه نشانی و سپس در مجاورت هوا و در دمای 400 درجه ی سانتیگراد بازپخت شدند. طیف تراگسیل نمونه ها توسط طیف سنج اندازه گیری شد. آستانه ی آسیب لیزری پوشش ها توسط یک لیزرNd:YAG کلید زنی شده در طول موج1064 نانومتر و با پهنای پالس 10ns مورد بررسی قرار گرفت. یافته ها نشان داد که طیف تراگسیل نمونه هاه قبل و بعد از بازپخت تغییر چندانی نمی کند. آستانه ی آسیب لیزری نمونه ها به طور کلی افزایش می یابد و این افزایش برای بستره های از جنس فیوز سیلیکا به مراتب از بستره های BK7 بیشتر است.
کلمات کلیدی: پوشش نابازتابنده ، لایه های نازک اپتیکی ، بازپخت، آستانه ی آسیب لیزری، تبخیر فیزیکی بخار
صفحه اختصاصی مقاله و دریافت فایل کامل: https://civilica.com/doc/69537/