بررسی اثر دانسیته جریان پیک و درصد زمان خاموش بر مورفولوژی و ترکیب شیمیایی پوشش آلیاژی Zn-Co اعمال شده روی فولادAISI 1018

Publish Year: 1388
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: Persian
View: 1,051

This Paper With 8 Page And PDF Format Ready To Download

  • Certificate
  • من نویسنده این مقاله هستم

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این Paper:

شناسه ملی سند علمی:

ISSE10_075

تاریخ نمایه سازی: 1 فروردین 1388

Abstract:

رسوب دهی الکتریکی توسط جریان پالس در مقایسه با جریان مستقیم به عنوان روشی برای تولید پوشش های همگن تر، متراکم تر و با تخلخل کمتر مورد استفاده قرار می گیرد. در این پژوهش پوشش آلیاژی روی - کبالت از طریق آبکاری الکتریکی با استفاده از حمام قلیایی حاوی گلیساین و نیز بکارگیری جریان پالس مورد بررسی قرار گرفت و تاثیر پارامترهای دانسیته جریان پیک و درصد زمان خاموش بر روی مورفولوژی و ترکیب شیمیایی پوشش ها مطالعه شد. بررسی های ریزساختاری وترکیبی پوشش هاه با استفاده از میکروسکوپ الکترونی روبشی SEM و آنالیز تفکیک انرژی EDS انجام شد. نتایج نشان می دهد که با افزایش دانسیته جریان پیک و درصد زمان خاموش، میزان کبالت پوشش افزایش می یابد و همچنین اندازه دانه های پوشش با افزایش این دو پارامتر ابتدا کاهش یافته اما با افزایش مجدد این دو پارامتر اندازه دانه های پوشش افزایش می یابد.

Authors

میثم حیدری

دانشکده مهندسی مواد، دانشگاه تهران

محمود حیدرزاده سهی

دانشکده مهندسی مواد، دانشگاه تهران

مراجع و منابع این Paper:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود Paper لینک شده اند :
  • N. Boshkov, K. Petrov, D. Kovacheva, S. Vitkova and S. ...
  • G. Roventi, T. Bellezze and R. Fratesi, _، Elec trochemic ...
  • R. Raman auskas _ L. Gudavi ciute, L. Diaz-Ballote, P. ...
  • N. Boshkov, K. Petrov, S. Vitkova, _ Nemska and G. ...
  • E. Gomez, and E. Valle, 44Characteri sation of zinc+cobalt alloy ...
  • R. Ramanauskas _ and R. Juskenas, _ of pulse plating ...
  • C.R. Tomachuk, A. Freire, M. Ballester, R. Fratesi and G. ...
  • Y. Fei and G.D. Wilcox, ، 4Electrodepo sition of Zn-Co ...
  • S. Lichusina, A. Chodosovskaj a, A. Sudavicius, R. Juskenas, D. ...
  • J.L. Ortiz -Aparicio _ Y. Meas, G. Trejo, R. Ortega, ...
  • Z.F. Lodhi, J.M.C. Mol, A. Hovestad, H. Terryn and J.H.W. ...
  • M. S. Chandrasekar and M. Pushpav anam, ،Pulse and pulse ...
  • نمایش کامل مراجع