سنتز نانوذرات مس/اکسید مس به روش تخلیه الکتریکی وبررسی خاصیت فتوکاتالیستی آن

استفاده از نانوذرات در علوم و صنایع مختلف بواسطه ایجاد خواص منحصر به فرد مورد توجه واقع شده است. حذف آلودگی با استفاده از فتوکاتالیست یکی از زمینه هایی است که بکارگیری نانوذرات در آن جهت بهبود کارایی مورد توجه واقع شده است. در این تحقیق نانوذرات مس/اکسید مس با استفاده از روش تخلیه الکتریکی ایجاد شده است. الگوی تفرق اشعه ایکس بیانگر وجود دو فاز مس و اکسید مس می باشد. تصویر میکروسکوپ الکترونی عبوری نشان دهنده ابعاد ذرات در محدوده کمتر از nm 50 می باشد. به منظور حذف آلودگی از متیلن بلو به عنوان مدل آلودگی استفاده گردید که تابش یک لامپ زنون 50 واتی در حضور 3 میلیگرم نانوذره و یک قطره H2O2 منجر به تخریب 98% آن در مدت 140 دقیقه شد.

Keywords:

نانوذره , مس/اکسید مس , فتوکاتالیست , متیلن بلو