CIVILICA We Respect the Science
(ناشر تخصصی کنفرانسهای کشور / شماره مجوز انتشارات از وزارت فرهنگ و ارشاد اسلامی: ۸۹۷۱)

ارزیابی اثر فاصله بین اتمی در رسانش الکترونی نانوسیم های سیلیکونی

عنوان مقاله: ارزیابی اثر فاصله بین اتمی در رسانش الکترونی نانوسیم های سیلیکونی
شناسه ملی مقاله: MRSS01_194
منتشر شده در کنگره ملی شیمی ونانو شیمی از پژوهش تا توسعه ملی در سال 1396
مشخصات نویسندگان مقاله:

سیدمحمد اعظمی - دانشگاه یاسوج گروه شیمی
سیده زینب موسوی محمره - دانشگاه یاسوج گروه شیمی

خلاصه مقاله:
محاسبات Abintio در سطح محاسباتی HF و با مجموعه پایه 6-31G* برای ارزیابی فاصله بین اتمی در رسانش الکترونی نانوسیم های سیلیکونی به کار گرفته شده است. نانوساختارهای سیلیکونی با فاصله های بین اتمی متفاوت در سیستم های یک بعدی مورد بررسی قرار گرفتند. این نانوساختارها دارای تقارن های متفاوتی هستند و بسته به نوع تقارن، فواصل بین اتمی نیز متفاوت خواهند بود. هدف از این مطالعه، بدست آوردن فاصله ی مناسب، بین اتم های سیلیکون است که درآن فاصله بیشترین رسانش سیستم ملاحظه می شود.

کلمات کلیدی:
رسانش الکترونی، نانوساختار، سیلیکون، HLG

صفحه اختصاصی مقاله و دریافت فایل کامل: https://civilica.com/doc/718289/