بهینه سازی و کنترل تزریق حاملهای الکترون و حفره در دیود نور گسیل آلی با هدف افزایش شدت تابش فلوئورسانس
عنوان مقاله: بهینه سازی و کنترل تزریق حاملهای الکترون و حفره در دیود نور گسیل آلی با هدف افزایش شدت تابش فلوئورسانس
شناسه ملی مقاله: ICOPTICP16_088
منتشر شده در شانزدهمین کنفرانس اپتیک و فوتونیک ایران در سال 1388
شناسه ملی مقاله: ICOPTICP16_088
منتشر شده در شانزدهمین کنفرانس اپتیک و فوتونیک ایران در سال 1388
مشخصات نویسندگان مقاله:
جلال جعفری - ازمایشگاه فوتونیک پلیمرها و مواد آلی - پژوهشکده لیزر و پلاسما، دانشگاه
عزالدین مهاجرانی - ازمایشگاه فوتونیک پلیمرها و مواد آلی - پژوهشکده لیزر و پلاسما، دانشگاه
حسین رضوی - ازمایشگاه فوتونیک پلیمرها و مواد آلی - پژوهشکده لیزر و پلاسما، دانشگاه
خلاصه مقاله:
جلال جعفری - ازمایشگاه فوتونیک پلیمرها و مواد آلی - پژوهشکده لیزر و پلاسما، دانشگاه
عزالدین مهاجرانی - ازمایشگاه فوتونیک پلیمرها و مواد آلی - پژوهشکده لیزر و پلاسما، دانشگاه
حسین رضوی - ازمایشگاه فوتونیک پلیمرها و مواد آلی - پژوهشکده لیزر و پلاسما، دانشگاه
در این تحقیق میزان تزریق حاملها در دیود نور گسیل آلی بررسی و بهینه سازی شده است. افزایش میدان تزریق حاملهای اقلیت (الکترون) در نتیجه عبور از سد تزریق با بکارگیری پدیده تونل زنی صورت گرفت. همچنین کنترل نرخ تزریق حاملهای اکثریت (حفره ) با استفاده از سد کننده حفره (BCP) در یک ساختار جدید معرفی شده است. در این مقاله ارتقای تکنیک لایه نشانی مواد آلی به عنوان ابزاری برای کنترل نرخ تزریق گزارش و در پایان ساختار بهینه سازی شده دیود پس از تنظیم حاملهای اقلیت و اکثریت معرفی شده است.
کلمات کلیدی: دیود نور گسیل الی، مواد سد کننده حفره، پدیده تونل زنی
صفحه اختصاصی مقاله و دریافت فایل کامل: https://civilica.com/doc/73633/