امیر موسوی پرست - دانشگاه آزاد اسلامی، علوم و تحقیقات - تهران - ایران
علیرضا نیک فرجام - دانشگاه آزاد اسلامی، علوم و تحقیقات - تهران - ایران
مسعود دوستی - دانشگاه آزاد اسلامی، علوم و تحقیقات - تهران - ایران

در این تحقیق لایه های نازک WO3 از اسید پروکسوپلی تنگستیک با استفاده از روش سل - ژل، در محدوده دمایی 500-120°C ساخته شد. پراش اشعه ایکس (XRD) فاز WO3 را نشان داد. بجز نمونه ساخته شده در 500، بقیه نمونه ها به شکل آمورف درآمده اند. آنالیز نوری، حالت آبی تیره (درصد عبور=17%-7 در ناحیه مرئی) را در ولتاژ 2.2- ولت نشان داد د رحالیکه شفاف شدن در 1.8+ ولت اتفاق افتاد (درصد عبور=66.6%-60). در لایه هایی که در 200 بمدت یک ساعت پخته شدند، برگشت پذیری خوبی مشاهده شد.

اکسید تنگستن، خواص اپتیکی والکتروکرومیکی، سل ژل، لایه های نازک