CIVILICA We Respect the Science
(ناشر تخصصی کنفرانسهای کشور / شماره مجوز انتشارات از وزارت فرهنگ و ارشاد اسلامی: ۸۹۷۱)

تزریق الکترون در فرآیند شتاب میدان عقبه ی لیزری با استفاده از لایه های با چگالی نزدیک به چگالی بحرانی

عنوان مقاله: تزریق الکترون در فرآیند شتاب میدان عقبه ی لیزری با استفاده از لایه های با چگالی نزدیک به چگالی بحرانی
شناسه ملی مقاله: PLASMA04_014
منتشر شده در چهارمین کنفرانس مهندسی و فیزیک پلاسما در سال 1395
مشخصات نویسندگان مقاله:

میثم تقی پور - گروه فیزیک اتمی و مولکولی، دانشکده ی علوم پایه، دانشگاه مازندران، بابلسر
سعید میرزانژاد - گروه فیزیک اتمی و مولکولی، دانشکده ی علوم پایه، دانشگاه مازندران، بابلسر
ماهرخ رحیم نژاد - گروه فیزیک اتمی و مولکولی، دانشکده ی علوم پایه، دانشگاه مازندران، بابلسر

خلاصه مقاله:
در این مقاله روشی برای افزایش الکترونهای به دام افتاده در میدان عقبه ی لیزری در فرآیند شتاب در پلاسمای رقیق ارایه شده است. در این روش یک لایه ی نازک الکترونهای لایه وارد محیط پلاسمای رقیق می شوند. برخی از این الکترونها در میدان عقبه ای که پالس عبور کرده از لایه در پلاسمای رقیق ایجاد می کند به دام می افتند. برای بررسی این روش از شبیه سازی ذره در سلول استفاده شده است.

صفحه اختصاصی مقاله و دریافت فایل کامل: https://civilica.com/doc/738701/