بررسی اثر میدان مغناطیسی راهنمای خارجی روی نرخ رشد یک لیزر الکترون آزاد با ویگلر لیزری و پس زمینه پلاسما

در این مقاله به بررسی معادله پاشندگی یک لیزر الکترون آزاد با ویگلر لیزری که در آن یک پالس لیزری قطبیده خطی هم جهت با باریکه الکترونی نسبیتی به درون پس زمینه پلاسما تزریق می شود، خواهیم پرداخت. طول موج های کوتاه پالس لیزری، فرکانس های بالاتری را نسبت به ویگلر های مرسوم ایجاد می کنند و در نتیجه می توان بدون نیاز به داشتن باریکه های پر انرژی، طول موج هایی از مرتبه اشعه ایکس را توسط باریکه های کم انرژی تر ایجاد کرد. با وارد کردن اختلال به معادلات انتقال ممنتوم و پیوستگی و ماکسول، رابطه پاشندگی را برای باریکه عبوری بدست آوردیم. به علاوه نرخ رشد آن در حضور قدرت های میدان مغناطیسی مختلف مورد بحث قرار گرفته است.