تغییرات میدان دنباله حاصل از پالس لیزری چیرپ شده در پلاسمای ناهمگن
Publish place: چهارمین کنفرانس مهندسی و فیزیک پلاسما
Publish Year: 1395
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: Persian
View: 266
متن کامل این Paper منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل Paper (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.
- Certificate
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
PLASMA04_041
تاریخ نمایه سازی: 11 خرداد 1397
Abstract:
تحول میدان دنباله حاصل از برهمکنش پالس لیزری چیرپ شده فوق کوتاه در پلاسمای همگن و ناهمگن بررسی شده است. با در نظر گرفتن تابعیت خطی، درجه دوم و سینوسی برای چیرپ پالس لیزری، نشان می دهیم که بیشینه اندازه میدان دنباله در پلاسمای ناهمگن و با پالس چیرپ شدهی درجه دوم بدست می آید. همچنین مشاهده می شود که میدان دنباله با افزایش شدت پالس و ضریب ناهمگنی تقویت می شود.
Authors
محمد رضایی پندری
پژوهشکده لیزر و پلاسما دانشگاه شهید بهشتی تهران
فاضل جهانگیری
پژوهشکده لیزر و پلاسما دانشگاه شهید بهشتی تهران
علیرضا نیکنام
پژوهشکده لیزر و پلاسما دانشگاه شهید بهشتی تهران
رضا مسعودی
پژوهشکده لیزر و پلاسما دانشگاه شهید بهشتی تهران