CIVILICA We Respect the Science
(ناشر تخصصی کنفرانسهای کشور / شماره مجوز انتشارات از وزارت فرهنگ و ارشاد اسلامی: ۸۹۷۱)

تحلیل مشخصه های ترانزیستورهای n-MOSFET د ر تکنولوژی سیلیکون روی عایق

عنوان مقاله: تحلیل مشخصه های ترانزیستورهای n-MOSFET د ر تکنولوژی سیلیکون روی عایق
شناسه ملی مقاله: TECCONF02_012
منتشر شده در دومین کنفرانس ملی فناوری در مهندسی برق و کامپیوتر (TEC-2017) در سال 1396
مشخصات نویسندگان مقاله:

بهنام بابازاده داریان - گروه مهندسی الکترونیک، واحد گرمسار، دانشگاه آزاد اسلامی، گرمسار، ایران
عبدالله عباسی - گروه مهندسی الکترونیک، واحد گرمسار، دانشگاه آزاد اسلامی، گرمسار، ایران

خلاصه مقاله:
با گذشت زمان و توسعه ادوات نیمه هادی، ساخت این قطعات به سمت هرچه کوچک تر شدن این ابزار پیش می رود به این منظور، استفاده از فناوری CMOS در سایزهای کمتر μm 0.8 متمرکز شده است. یکی از مزایای این پیشرفت، پیاده سازی قطعات بیشتر بر روی یک تراشه می باشد. برای حل مشکلات کانال کوتاه از تکنولوژی سیلیکون روی عایق SOI استفاده می شود. ویژگی های ذاتی این فناوری، ترانزیستورهای کوچک تر با سرعت سوییچینگ سریع تر، کم مصرف تر با منابع ولتاژ پایین تر را ایجاد نموده است در این مقاله به تحلیل و مقایسه مشخصه های تکنولوژی سیلیکون روی عایق با تکنولوژی معمول بالک با تمرکز بر جریان نشت، ولتاژ آستانه و زیر آستانه در محدوده زیر میکرو پرداخته شده است. این تکنولوژی Silvaco-Athena پیاده سازی و پارامترهای مربوطه با استفاده از Atlas در سایزهای مختلف ارایه شده است.

کلمات کلیدی:
لاتین CMOS، تکنولوژی SOI، شبیه ساز Silvaco-Athena Atlas

صفحه اختصاصی مقاله و دریافت فایل کامل: https://civilica.com/doc/744589/