تحلیل مشخصه های ترانزیستور اثر میدانی تونلی گرافینی GTFET در مقیاس نانو

Publish Year: 1396
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: Persian
View: 339

This Paper With 5 Page And PDF Format Ready To Download

  • Certificate
  • من نویسنده این مقاله هستم

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این Paper:

شناسه ملی سند علمی:

NCNIEE06_096

تاریخ نمایه سازی: 1 مرداد 1397

Abstract:

در این مقاله ساختار و مشخصه های افزاره اثر میدانی تونلی گرافینی (GTFET) در مقیاس نانو بررسی شده است. با بررسی سه ساختاردر نظر گرفته شده برای افزاره شامل گرافین دارای شکاف باند و بدون شکاف باند و ترکیبی از هر دو در میان نواحی سورس، کانال و درین، مشخص گردید که نسبت Ion/Ioff در ساختار ترکیب گرافین دارای شکاف باند و بدون شکاف بهبود قابل توجهی در مقایسه با سایر ساختارها درمقیاس نانو داشته و دارای مشخصه های خروج مناسب تری جهت کاربرد آنالوگ و دیجیتال میباشد. همچنین شبیهسازیها نشان داد با کاهش غلطت ناخالصی نواحی مختلف، جریان کشیده شده و ولتاژ آستانه (Vth) افزاره کاهش مییابد.

Keywords:

ترانزیستور اثر میدان تونلی گرافین , ولتاژ آستانه , سیلواکو (SILVACO)

Authors

بهنام بابازاده داریان

گروه مهندسی الکترونیک، واحد گرمسار، دانشگاه آزاد اسلامی، گرمسار، ایران

محمدرضا نوری زاده اردبیلی

گروه مهندسی الکترونیک، واحد گرمسار، دانشگاه آزاد اسلامی، گرمسار، ایران