CIVILICA We Respect the Science
(ناشر تخصصی کنفرانسهای کشور / شماره مجوز انتشارات از وزارت فرهنگ و ارشاد اسلامی: ۸۹۷۱)

بررسی و مدل سازی ترانزیستور نیمه هادی گالیوم آرسناید

عنوان مقاله: بررسی و مدل سازی ترانزیستور نیمه هادی گالیوم آرسناید
شناسه ملی مقاله: PCCO01_089
منتشر شده در کنفرانس ملی فناوری های نوین در مهندسی برق و کامپیوتر در سال 1396
مشخصات نویسندگان مقاله:

شاهین بازغی کیسمی - دانشجوی دکتری، دانشکده فنی و مهندسی، دانشگاه آزاد واحد گرمسار، واحد گرمسار، ایران.
عبداله عباسی - استادیار, دانشکده فنی مهندسی, دانشگاه سمنان, سمنان, ایران.

خلاصه مقاله:
ترانزیستورهای اثر میدان، قطعات کنترل شونده با ولتاژ می باشند. ترانزیستورهای ماسفت، بسته به کانالی که ولتاژ اعمالی به گیت در زیر سطح لایه اکسید در آنها شکل میگیرد NMOS یا PMOS نامیده می شوند. به دلیل بالا بودن سرعت سوییچینگ و فرکانس کاری و نرخ بالای سیگنال به نویز در صنایع مخابرات در باند مایکرویوو استفاده می شوند. کانال روی یک زمینه نیمه هادی با مقاومت بالا و چگالی ناخالصی پایین می نشیند. مقاومت زیر بنا آن قدر بالاست که اغلب از یک ماده نیمه عایق استفاده می شود. چنانچه یک ولتاژ کوچیک بین سورس درین ایجاد شود، جریانی بین آنها برقرار می شود. که با افزایش ولتاژ سورس و درین جریان به صورت خطی افزایش می یابد. نخست به مقدمه ای از طراحی، شماتیک و سپس ساخت ترانزیستور و مراحل آن می پردازیم. در این تحقیق ترانزیستورهای اثر میدان بررسی و مدل سازی می شود و با استفاده از نرم افزار سیلواکو شبیه سازی شده و منحنی مشخصه آن رسم می گردد

کلمات کلیدی:
ترانزیستورهای اثر میدان، قطعات کنترل شونده، باند مایکرویوو، ساخت ترانزیستور، شبیه سازی

صفحه اختصاصی مقاله و دریافت فایل کامل: https://civilica.com/doc/758642/