استفاده از اکسید گیت L شکل در ترانزیستورهای MOSFET سیلیکون روی عایق جهت کاهش خازن های گیت
عنوان مقاله: استفاده از اکسید گیت L شکل در ترانزیستورهای MOSFET سیلیکون روی عایق جهت کاهش خازن های گیت
شناسه ملی مقاله: PCCO01_197
منتشر شده در کنفرانس ملی فناوری های نوین در مهندسی برق و کامپیوتر در سال 1396
شناسه ملی مقاله: PCCO01_197
منتشر شده در کنفرانس ملی فناوری های نوین در مهندسی برق و کامپیوتر در سال 1396
مشخصات نویسندگان مقاله:
علی نادری - استادیار گروه مهندسی برق، دانشکده انرژی، دانشگاه صنعتی کرمانشاه
بهروز عبدی تهنه - گروه مهندسی برق، دانشکده انرژی، دانشگاه صنعتی کرمانشاه
خلاصه مقاله:
علی نادری - استادیار گروه مهندسی برق، دانشکده انرژی، دانشگاه صنعتی کرمانشاه
بهروز عبدی تهنه - گروه مهندسی برق، دانشکده انرژی، دانشگاه صنعتی کرمانشاه
در این مقاله یک ساختار جدید برای ترانزیستورهای اثر میدانی فلز-اکسید-نیمه هادی با تکنولوژی سیلیکون روی عایق SOI-MOSFET پیشنهادی شده است. ایده اصلی در این ساختار در استفاده از اکسید گیت L شکل زیر فلز گیت است. این لایه اکسید L شکل با تغییر دادن خازن های ناحیه کانال رفتار ترانزیستور را بهبود می دهد به طوری که خازن های پارازتی گیت-درین و گیت- سورس را کم میکند و فرکانس قطع را افزایش می دهد و همچنین نتایج شبیه سازی های انجام شده نشان می دهد که می توان ماکزیمم دمای ترانزیستور را در مقایسه با ساختار پایه بهبود داد . این بهبودی ها به ویژه برای ولتاژهای بالای گیت بیشتر محسوس است. بنابراین نام ساختار پیشنهادی SOI- MOSFET با اکسید گیت L شکل LSO-SOI-MOSFET نام گذاری شده است.
کلمات کلیدی: LSO-SOI-MOSFET ،SOI-MOSFET فرکانس قطع، خازن گیت- درین، دما
صفحه اختصاصی مقاله و دریافت فایل کامل: https://civilica.com/doc/758748/