CIVILICA We Respect the Science
(ناشر تخصصی کنفرانسهای کشور / شماره مجوز انتشارات از وزارت فرهنگ و ارشاد اسلامی: ۸۹۷۱)

ساخت غشای پلی اتر سولفون اصلاح شده با هالوسیت/پلی آنیلین جهت حذف آفت کش متوکسی فنوزاید

عنوان مقاله: ساخت غشای پلی اتر سولفون اصلاح شده با هالوسیت/پلی آنیلین جهت حذف آفت کش متوکسی فنوزاید
شناسه ملی مقاله: IACS02_148
منتشر شده در دومین سمینار شیمی کاربردی ایران در سال 1396
مشخصات نویسندگان مقاله:

الهام امامی - آزمایشگاه پژوهشی، گروه شیمی تجزیه، دانشکده شیمی، دانشگاه مراغه، مراغه
صبا چمن آزاد - آزمایشگاه پژوهشی، گروه شیمی تجزیه، دانشکده شیمی، دانشگاه مراغه، مراغه
میر مهدی ابوالقاسمی - آزمایشگاه پژوهشی، گروه شیمی تجزیه، دانشکده شیمی، دانشگاه مراغه، مراغه

خلاصه مقاله:
در پروژهی حاضر، ساخت و بررسی غشای پلی اتر سولفون که با هالوسیت / پلی آنیلین برای حذف آفت کش متوکسی فنوزاید اصلاح شده است مورد بررسی قرار گرفته است. آنالیزهای متعددی از قبیل SEM برای تشخیص مورفولوژی و بررسی تخلخل غشای پلی اتر سولفون اصلاح شده با 0/5 ، 1 و 2/5 درصد هالوسیت / پلی آنیلین انجام شده است. تصاویری که از میکروسکوپ الکترونی روبشی (SEM) بدست آمده، نشان میدهد که مورفولوژی غشای فیلتراسیون که اصلاح شده با هالوسیت / پلی آنیلین به حالت نانو تبدیل شده است. همچنین عملکرد غشای پلی اتر سولفون که با هالوسیت / پلی آنیلین بمنظور حذف آفت کش متوکسی فنوزاید بررسی شده اند، نتایج نشان میدهد که غشای نانو فیلتراسیون که با 1درصد هالوسیت / پلی آنیلین اصلاح شده اند در مقابسه با غشای فاقد آن کارایی حذف را تا 22 درصد افزایش داده است.

کلمات کلیدی:
غشا، پلی اتر سولفون، هالوسیت، پلی آنیلین، متوکسی فنوزاید

صفحه اختصاصی مقاله و دریافت فایل کامل: https://civilica.com/doc/762388/