مطالعه مکانیزم جوانه زنی و رشد لایه نشانی الکتروشیمیایی لایه های نازک نیکل بر روی مس

لایه نشانی الکتروشیمیایی نسبت به دیگر تکنیکهای لایه نشانی دارای امتیازاتی از قبیل انعطاف پذیری و هزینه پایین فرایند است. کنترل دقیق روی نشست الکتروشیمیایی نیازمند داشتن اطلاعات کافی در مورد جوانه زنی و رشد لایه هایی است که می توانند بوسیله تکنیک های لایه نشانی مطالعه شوند. در این تحقیق، ما مکانیزم جوانه زنی و رشد نیکل را از یک حمام سولفاتی ساده برروی زیرلایه مس مورد مطالعه قرار داده ایم. نتایج ولتامتری سیکلی و جریان گذرا ثبت شده در طی لایه نشانی الکتروشیمیایی نیکل روی مس برای ارزیابی نشست الکتروشیمیایی نیکل استفاده شده است. نتایج نشان دادند که نیکل از پتانسیل اسمی V0.7- شروع به رشد برروی مس می کند. با افزایش سرعت جاروب، منحنی های ولتامتری سیکلی باعث انتقال پیک های احیای نیکل به سمت مقادیر منفی تر میشوندما منحنی های بدون بعد را برطبق تئوری شریفکیز - هیلز رسم کرده ایم و یک مکانیزم جوانه زنی و رشد آنی برای نیکل برروی مس براساس شرایط این آزمایش برآورد کرده ایم. همچنین براساس تصاویر SEM بدست آمده از غلظت های مختلف حمام سولفاتی، جوانه زنی و رشد آنی نیکل به خوبی مشاهده می شود و با توجه به این تصاویر به طور واضح مشخص است که اندازه جوانه های بدست آمده کمتر از 100nm است.