ناشر تخصصی کنفرانس های ایران

لطفا کمی صبر نمایید

Publisher of Iranian Journals and Conference Proceedings

Please waite ..
CIVILICAWe Respect the Science
Publisher of Iranian Journals and Conference Proceedings
Paper
Title

مطالعه مکانیزم لایه نشانی الکتروشیمیایی و تاثیر غلظت نیکل بر روی زیرلایه( Si +n(111

Year: 1388
COI: NCCEESLAMSHAR01_147
Language: PersianView: 1,428
This Paper With 10 Page And PDF Format Ready To Download

Buy and Download

با استفاده از پرداخت اینترنتی بسیار سریع و ساده می توانید اصل این Paper را که دارای 10 صفحه است به صورت فایل PDF در اختیار داشته باشید.
آدرس ایمیل خود را در کادر زیر وارد نمایید:

Authors

سیدمهدی جان جان - دانشجوی کارشناسی ارشد مهندسی مواد - نانو مواد دانشگاه صنعتی سهند تبری
فرزاد نصیرپوری - استادیار دانشکده مواد دانشگاه صنعتی سهند تبریز
میرقاسم حسینی - دانشیار دانشکده شیمی دانشگاه تبریز

Abstract:

لایه نشانی الکتروشیمیایی نسبت به روشهای لایه نشانی فیزیکی مزایایی از جمله عدم نیاز به سیستم خلا، دمای کاری پایین فرایند ( درحدود دمای محیط) ارزان قیمت بودن فرایند، و تولید فصل مشترک های تیز و اپیتاکسی برای ساخت لایه های نازک دارد در این راستا استفاده از روشهای مختلف الکتروشیمیایی از جمله ولتامتری سیکلی، کرونوآمپرمتری (منحنی مشخصه جریان - زمان) و کرونوپتانسیومتری (منحنی مشخصه پتانسیل - زمان ) برای مطالعه متغیرهای مختلف ترمودینامیکی و سینتیکی لایه نشانی مورد توجه قرا ردارد. با توجه به اهمیت لایه های نازک فرومغناطیسی، دراین تحقیق مکانیزم جوانه زنی و رشد نیکل برروی زیرلایه Si +n(111) از حمام سولفاتی ساده با استفاده از تکنیکهای الکتروشیمیایی ولتامتری سیکلی و کرونوآمپرمتری و مقایسه آن با تئوری شریفکز - هیلز مورد مطالعه قرار گرفته است نتایج آزمایش ولتامتری سیکلی در سرعتهای جاروب مختلف ازmV/s20 تا mV/s200 در غلظتهای متفاوت سولفات نیکل، جریان کاتدی از پتانسیل V0.7- شروع شده و پتانسیل احیای نیکل را در سرعت های جاروب مختلف محدوده و V1.3- تا V1.5- نشان میدهد بااستفاده از تکنیک کرونوآمپرمتری و رسم منحنی های بدون بعد مجذور نسبت جریان نشست به جریان پیک براساس تئوری شریفکز - هیلز، نحوه جوانه زنی به صورت آنی به اثبات می رسد. همچنین نحوه تغییرات مقدار جریان نشست نسبت به t1/2 خطی و نسبت به t3/2 غیرخطی است که تایید کننده مکانیزم جوانه زنی و رشد نیکل به صورت آنی می باشد.

Keywords:

نیکل، لایه نشانی الکتروشیمیایی، جوانه زنی و رشد، تئوری شریفکیز - هیلز.

Paper COI Code

برای لینک دهی به این Paper می توانید از لینک زیر استفاده نمایید. این لینک همیشه ثابت است و به عنوان سند ثبت Paper در مرجع سیویلیکا مورد استفاده قرار میگیرد:

https://civilica.com/doc/80158/

How To Citation:

در صورتی که می خواهید در اثر پژوهشی خود به این Paper ارجاع دهید، به سادگی می توانید از عبارت زیر در بخش منابع و مراجع استفاده نمایید:
جان جان، سیدمهدی و نصیرپوری، فرزاد و حسینی، میرقاسم،1388،مطالعه مکانیزم لایه نشانی الکتروشیمیایی و تاثیر غلظت نیکل بر روی زیرلایه( Si +n(111،همایش ملی مهندسی شیمی،اسلامشهر،،،https://civilica.com/doc/80158

در داخل متن نیز هر جا که به عبارت و یا دستاوردی از این Paper اشاره شود پس از ذکر مطلب، در داخل پارانتز، مشخصات زیر نوشته می شود.
برای بار اول: (1388، جان جان، سیدمهدی؛ فرزاد نصیرپوری و میرقاسم حسینی)
برای بار دوم به بعد: (1388، جان جان؛ نصیرپوری و حسینی)
برای آشنایی کامل با نحوه مرجع نویسی لطفا بخش راهنمای سیویلیکا (مرجع دهی) را ملاحظه نمایید.

مراجع و منابع این Paper:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مPaperقاله لینک شده اند :

  • M. Paunovic, M. Schelesinger; "Fundamentas of Elec trochemical Deposition", John ...
  • W. Shwarzacher, K. Attenborough, A. Michel, G. Nabiyouni, J. P. ...
  • N.Lebbad, J.Voiron, B.Nguyen, E.Chainet, "Thi Solid Films", 275 (73) (1998) ...
  • W. Schwarzacher, "Interface", Spring 2006, 32-36. ...
  • J.C. Ziegler, R.I. Wielgosz, D.M. Kolb, 6, Pb deposition on ...
  • W. Schwarzacher, "Kinetic roughening of elec trodeposited films", J. Phys.: ...
  • B. Scharifker, G. Hills, "Theoretical and experimental studies of multiple ...
  • Research Info Management

    Certificate | Report | من نویسنده این مقاله هستم

    اطلاعات استنادی این Paper را به نرم افزارهای مدیریت اطلاعات علمی و استنادی ارسال نمایید و در تحقیقات خود از آن استفاده نمایید.

    علم سنجی و رتبه بندی Paper

    مشخصات مرکز تولید کننده این Paper به صورت زیر است:
    نوع مرکز: دانشگاه دولتی
    تعداد مقالات: 3,758
    در بخش علم سنجی پایگاه سیویلیکا می توانید رتبه بندی علمی مراکز دانشگاهی و پژوهشی کشور را بر اساس آمار مقالات نمایه شده مشاهده نمایید.

    مقالات پیشنهادی مرتبط

    New Papers

    Share this page

    More information about COI

    COI مخفف عبارت CIVILICA Object Identifier به معنی شناسه سیویلیکا برای اسناد است. COI کدی است که مطابق محل انتشار، به مقالات کنفرانسها و ژورنالهای داخل کشور به هنگام نمایه سازی بر روی پایگاه استنادی سیویلیکا اختصاص می یابد.

    کد COI به مفهوم کد ملی اسناد نمایه شده در سیویلیکا است و کدی یکتا و ثابت است و به همین دلیل همواره قابلیت استناد و پیگیری دارد.

    Support