CIVILICA We Respect the Science
(ناشر تخصصی کنفرانسهای کشور / شماره مجوز انتشارات از وزارت فرهنگ و ارشاد اسلامی: ۸۹۷۱)

بررسی تاثیر ناخالصی بر خواص الکترونیکی mos2

عنوان مقاله: بررسی تاثیر ناخالصی بر خواص الکترونیکی mos2
شناسه ملی مقاله: MNTECH01_009
منتشر شده در اولین کنفرانس ملی میکرو نانو فناوری در سال 1397
مشخصات نویسندگان مقاله:

سمیه احمدی سلطانسرایی - گروه فیزیک، دانشگاه بین المللی امام خمینی (ره) انتهای خیابان نوروزیان، قزوین .
شکوفه پور موسی - گروه فیزیک، دانشگاه بین المللی امام خمینی(ره)انتهای خیابان نوروزیان، قزوین .

خلاصه مقاله:
در این مقاله تاثیر ناخالصی بر خواص الکترونیکی mos2 بررسی می شود. برای این منظور ابتدا تک لایه ای از mos2 به شکل هگزاگونال را در نظر گرفته و ساختار الکترونیکی بدون آلایش آن مورد مطالعه قرار می دهیم. سپس با تاثیر ناخالصی، ساختار الکترونیکی mos2 را مورد بررسی قرار می دهیم. این بررسی توسط نرم افزار شبیه ساز Quantum ESPRESSO و در چارچوب نظریه تابعی چگالی انجام شده است. مشاهده می شود که ناخالصی سبب نغییر در خواص ماده ی ما خواهد شد.

کلمات کلیدی:
ناخالصی،mos2،هگزاگونال،Quantum ESPRESSO نظریه تابعی چگالی، اپتو الکتریک

صفحه اختصاصی مقاله و دریافت فایل کامل: https://civilica.com/doc/807644/