CIVILICA We Respect the Science
(ناشر تخصصی کنفرانسهای کشور / شماره مجوز انتشارات از وزارت فرهنگ و ارشاد اسلامی: ۸۹۷۱)

تغییر ترشوندگی لایه اکسید گرافین با استفاده از کاهش به روش فوتوکاتالیستی

عنوان مقاله: تغییر ترشوندگی لایه اکسید گرافین با استفاده از کاهش به روش فوتوکاتالیستی
شناسه ملی مقاله: JR_PSI-16-1_004
منتشر شده در شماره 1 دوره 16 فصل در سال 1395
مشخصات نویسندگان مقاله:

رضا آرام - گروه فیزیک، دانشکده علوم، دانشگاه زنجان، زنجان
رضا رسولی - گروه فیزیک، دانشکده علوم، دانشگاه زنجان، زنجان

خلاصه مقاله:
در این مقاله نتایج اثر کاهش فوتوکاتالیستی بر آبدوستی ورقه های اکسید گرفین ارایه میگردد . ورقه های اکسید گرافین از طریق اکسید کردن گرافیت طبیعی و ورقه ورقه کردن آن با شوک مکانیکی تهیه شده و سپس در حضور نانوذرات دی اکسید تیتانیوم تحت تابش اشعه فرابنفش قرار گرفتند. طیف سنجی رامان و میکروسکوپ نیروی اتمی نشان دادند که با افزایش تابش میزان زبری در سطح افزایش مییابد. همچنین میزان آبدوستی نمونه ها با اندازهگیری زاویه تماسی قطرات میکرولیتری آب دیونیزه، نشان داد که با افزایش مدت زمان تابش تا 8 ساعت زاویه تماسی نمونه ها از حدود 72 درجه تا حدود 98 درجه افزایش مییابد.

کلمات کلیدی:
زاویه تماسی، اکسید گرافین، نانوذرات دیاکسید تیتانیوم، کاهش فوتوکاتالیستی

صفحه اختصاصی مقاله و دریافت فایل کامل: https://civilica.com/doc/820344/