طراحی و سنتز پوشش آبگریز با استفاده از پلی سولفون و نانو ذرات اصلاح شده ZnO
عنوان مقاله: طراحی و سنتز پوشش آبگریز با استفاده از پلی سولفون و نانو ذرات اصلاح شده ZnO
شناسه ملی مقاله: ICESIT01_166
منتشر شده در اولین کنگره و نمایشگاه بین المللی علوم و تکنولوژی های نوین در سال 1397
شناسه ملی مقاله: ICESIT01_166
منتشر شده در اولین کنگره و نمایشگاه بین المللی علوم و تکنولوژی های نوین در سال 1397
مشخصات نویسندگان مقاله:
شیرین تمله - گروه فیزیک دانشکده علوم دانشگاه یاسوج، یاسوج، ایران
مرتضی جمشیدی - باشگاه دانش پژوهان جوان ونخبگان، واحدگیلان غرب، دانشگاه آزاد گیلان غرب واحد گیلان غرب ایران
قاسم رضایی - گروه فیزیک دانشکده علوم دانشگاه یاسوج، یاسوج، ایران
خلاصه مقاله:
شیرین تمله - گروه فیزیک دانشکده علوم دانشگاه یاسوج، یاسوج، ایران
مرتضی جمشیدی - باشگاه دانش پژوهان جوان ونخبگان، واحدگیلان غرب، دانشگاه آزاد گیلان غرب واحد گیلان غرب ایران
قاسم رضایی - گروه فیزیک دانشکده علوم دانشگاه یاسوج، یاسوج، ایران
در این پژوهش اصلاح نانو پوشش روی اکسید با استفاده از پلی سولفون مورد مطالعه قرار گرفت. نتایج حاصل از مورفولوژی سطح حاکی از پوشش دهی و زبری مناسب سطح بسترها به دنبال افزایش بازه زمانی غوطه ور شدن بستر ها در نانوذرات اصلاح شده روی اکسید است. نتایج طیف سنجی FTIR به وضوح نشان دهنده حضور سطوح شیمیایى اصلاح شده در فیلم آب گریز تهیه شده در بازه زمانی 72 ساعت است. مقادیر اندازه گیری شده زاویه قطرات آب بر روی نمونه های مورد مطالعه ضمن تایید نتایج مورفولوژی سطح، نشان داد که با افزایش بازه زمانی پوشش دهی سطح بستر، زاویه قطرات آب با سطح از 90 تا 118.1 درجه تغییر کرده است و در بازه زمانی 72 ساعت به بیشترین مقدار خود رسیده است.
کلمات کلیدی: روی اکسید، پلی سولفون، آب گریز، خود تمیز شوندگی
صفحه اختصاصی مقاله و دریافت فایل کامل: https://civilica.com/doc/836666/