اندازه گیری HVL فیلتر Ni و مطالعه تأثیر آن بر سختی اشعه X
Publish place: Iranian Physics Conference 1387
Publish Year: 1387
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: Persian
View: 1,529
متن کامل این Paper منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل Paper (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.
- Certificate
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
IPC87_106
تاریخ نمایه سازی: 24 آذر 1388
Abstract:
فیلترهای اشعه X برای حذف طیف نرم و اشعه X اختصاصی عنصر هدف در دستگاههای اشعهX به کار می روند که باعث سخت شدن طیف اشعه X حاصل می شود . در این کار فیلم هایی از نیکل به عنوان فیلتر به ضخامت اسمی 250-10 میکرون به روش الکتروانباشت تهیه شد. HVL فیلتر نیکل را با قرار دادن ضخامتهای مختلف فیلتر مقابل اشعه اندازه گرفتیم.برای بررسی تأثیر فیلتر روی سختی اشعه ورقه ای از آلومینیوم یکبار در غیاب فیلتر نیکل و بار دیگر در حضور آن اندازه گیری شد. با سخت شدن اشعه در حضور فیلتر HVL ، Ni آلومینیوم افزایش نشان میدهد.
Authors
حسین ترکاشوند
گروه فیزیک دانشگاه اراک
مراجع و منابع این Paper:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود Paper لینک شده اند :