رشد و مشخصه یابی نانوساختارهای آهن و مس برروی نیمرسانایn-Si وp-Si

در این مقاله رشد و مشخصه یابی نانو ساختارهای آهن و مس بر روی زیر لایه ها ئی از جنس سیلیکون ( 100 ) و ( 111 ) از نوع n و p با ضخامتهای 150-50 نانومتر برای آهن و 200-5 نانومتر برای مس، مورد مطالعه قرار گرفته است. از روی تصاویر AFM زبری، راستای چینه بندی و سایر پارام ترهای ساختاری مربوط به لایه ها ی نازک آهن و مس محاسبه و چگونگی تغییر زبری در اثر تغییر ضخامت و شرایط رشد را مورد مطالعه قرار میدهیم. ریشه ی میانگین مربعی (RMS) یا زبری در ابعاد 5×5 میکرومتر محاسبه شد که با در نظر گرفتن زاویه بین راستای چینه بندی و محور y (45°) ، مقدار RMS بترتیب برای آهن و مس 1/5-0/5 نانومتر و 2-1 نانومتر محاسبه گردیده است. خواص الکتریکی این لایه ها نیز به کمک ابزار Four Point Probe (FP) مورد تجزیه و تحلیل قرار گرفت.