CIVILICA We Respect the Science
(ناشر تخصصی کنفرانسهای کشور / شماره مجوز انتشارات از وزارت فرهنگ و ارشاد اسلامی: ۸۹۷۱)

ساخت لایه نازک نیکل برروی زیرلایه سیلسیم به روش لایه نشانی الکتروشیمیایی برای کاربرد در نانو ادوات اتصال فلز - نیمه رسانا

عنوان مقاله: ساخت لایه نازک نیکل برروی زیرلایه سیلسیم به روش لایه نشانی الکتروشیمیایی برای کاربرد در نانو ادوات اتصال فلز - نیمه رسانا
شناسه ملی مقاله: NAYRC02_067
منتشر شده در دومین همایش ملی نانو مواد ونانوتکنولوژی در سال 1389
مشخصات نویسندگان مقاله:

سیدمهدی جان جان - دانشجوی کارشناسی ارشد تبریز شهر جدید سهند پردیس دانشگاه صنعتی سهند دا
فرزاد نصیرپوری - استادیار تبریز شهر جدید سهند پردیس دانشگاه صنعتی سهند دانشکده مواد
غلامرضا نبیونی - دانشیار اراک دانشگاه اراک دانشکده فیزیک گروه فیزیک
میرقاسم حسینی - دانشیار دانشگاه تبریز دانشکده شیمی گروه شیمی فیزیک

خلاصه مقاله:
تشکیل لایه های بسیار نازک مانند بسیاری از دگرگونی فازی مستلزم فرایندهای جوانه زنی و رشد برروی زیرلایه می باشد دراین راستا برای بدست آوردن شرایط بهینه باید مکانیزم جوانه زنی و رشد نیکل برروی زیرلایه Si n+111 بررسی شود که این کار با استفاده از حمام وات و تکنیک الکتروشیمیایی کرونوآمپرمتری مورد مطالعه قرار گرفته است با استفاده از این تکنیک و رسم منحنی های بدون بعد مجذور نسبت جریان نشست به جریان پیک براساس تئوری شریفکر - هیلز ، نحوه جوانه زنی به صورت آنی به اثبات رسید. همچنین نحوه تغییرات مقدار جریان نشست نسبت به t1/2 خطی و نسبت به t3/2 غیرخطی است که تایید کننده مکانیزم جوانه زنی و رشد نیکل به صورت آنی می باشد با استفاده از تصاویر SEM مشخص شد که اندازه جوانه های نیکل کمتر از 100nm است. هدف از انجام این کار ساخت نانو ادوات دولایه نیمه رسانا / فرومغناطیسی است.

کلمات کلیدی:
نیکل - لایه نشانی الکتروشیمیایی - جوانه زنی و رشد - Si n+111 تئوری شریفکر، هیلز

صفحه اختصاصی مقاله و دریافت فایل کامل: https://civilica.com/doc/84489/