پایداری حرارتی ساختار لایه های نازک نقره انباشت شده روی Si در حین بازپخت در دماهای بالا
Publish place: Iranian Physics Conference 1388
Publish Year: 1388
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: Persian
View: 934
متن کامل این Paper منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل Paper (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.
- Certificate
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
IPC88_337
تاریخ نمایه سازی: 28 دی 1388
Abstract:
در این تحقیق لایه های نازک نقره با ضخامت 250nm با استفاده از روش کندوپاش مغناطیسی روی زیر لایه هائی از جنس سیلیکون انباشت شدند. لایه های رشد یافته، درجا تا دمای 400درجه سانتیگراد در محیط خلاء باز پخت شدند. الگوی پراش اشعهx این لایه ها در دمای اطاق و نیز در دماهای بالا در محیط خلاء، بررسی شدند. اندازه بلورک های نانوذرات نفره در دماهای مختلف محاسبه شدند. تغییر دمای تدریجی در خلاء تا دمای 925درجه سانتیگراد نشان میدهد که لایه نازک نقره دارای ساختار پایداری بوده ونیز جنانجه پس از لایه نشانی به صورت گرم ، درجا بازپخت صورت گیرد، ساختار لایه نشانده شده و اندازه بلورک های آن از کیفیت بهتری برخوردار خواهد بود.
مراجع و منابع این Paper:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود Paper لینک شده اند :