روشی نوین در میکرو - نانو ماشین کاری فتوشیمیایی بدون استفاده از شابلون

Publish Year: 1388
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: Persian
View: 2,354

This Paper With 5 Page And PDF Format Ready To Download

  • Certificate
  • من نویسنده این مقاله هستم

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این Paper:

شناسه ملی سند علمی:

ISME17_662

تاریخ نمایه سازی: 20 فروردین 1389

Abstract:

برای ساختن ترانزیستورها و مدارهای مجتمع (IC) و قطعاتی در ابعاد میکرو و نانو از تکنولوژی ماشین کاری شیمیایی دقیق استفاده می شود. در روش ماشین کاری شیمیایی از شابلون و در روش فتوشیمایی از فیلم نگاتیو برای تصویر کردن تصویر طرح برروی سطح قطعه استفاده می شود.

Authors

علیرضا فدایی تهرانی

استادیار دانشکده مکانیک دانشگاه صنعتی اصفهان

نیما نوری

دانشجوی کارشناسی ارشد دانشکده مکانیک

محمدرضا یاریان

دانشجوی کارشناسی ارشد دانشکده مکانیک

محمدجواد زرکوب

استادیار دانشکده مکانیک

مراجع و منابع این Paper:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود Paper لینک شده اند :
  • D.S Hwang , T.Saito , N Fujimori " New Etching ...
  • K.C.C _ TSE , D.Nikezic , K.N.Pu "Comprative Studies Of ...
  • Mark K.Long "Compute Aided Layout Synthesis For Aniotropic Etch Pho ...
  • Chemical Etching ه 4. H.R.Robbins And B.Schwartz Of Silicon I, ...
  • H.R.Robbins and B.schwartz _ Chemical Etching Of Silicon II, The ...
  • H.R.Robbins and B.schwartz _ Chemical Etching Of Silicon II, The ...
  • D.M Allen "The Principle And Practice Of Photochemicl Machinig And ...
  • Advance Machining Processes by Hassan Abdel, Gawad EI-Hoy. Alexandria University ...
  • Chemical Milling , by: W.T.Harris. Oxford university press _ 1976 ...
  • نمایش کامل مراجع