اثرناخالصی فسفرP برروی خواص ساختاری الکتریکی واپتیکی لایه های نازک نیمرسانای FTO

دراین تحقیق لایه های نازک FTO باناخالصی فسفر به روش اسپری پایرولیزیز برروی بسترهای شییشه ای تهیه شده وتراز ناخالصی فسفربانسبت اتمی [P]/[Sn]=0/1-10 درمحلول اولیه تغییر داده شداثرحضورناخالصی فسفربرروی خواص ساختاری الکتریکی واپتیکی لایه های نازک FTO:P بررسی شدنتایج نشان می دهد که باافزودن ناخالصی فسفرلایه ها دارای ساختاربس بلوری بافازاصلی SnO2 می باشند مقاومت سطحی لایه ها نیزدرنسبت مولی P/Sn= % 1;کمترین مقداررا نشان میدهد با افزایش تراکم ناخالصی شفافیت لایه ها نیز افزایش می یابد که بیشترین شفافیت اپتیکی لایه های FTO باناخالصی P درحدود 60درصد درناحیه مرئی بدست می آید