بررسی شرایط ایجاد اثر غیرخطی هماهنگ دوم در گرافن

Publish Year: 1393
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: Persian
View: 378

متن کامل این Paper منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل Paper (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.

  • Certificate
  • من نویسنده این مقاله هستم

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این Paper:

شناسه ملی سند علمی:

IPC93_321

تاریخ نمایه سازی: 5 آذر 1398

Abstract:

با توجه به اینکه، هماهنگ دوم تنها در موادی به وجود می آیند که تقارن مرکزی ندارند، به بررسی شرایط ایجاد هماهنگ دوم در گرافن پرداخته شده است. بنابراین، طبق شرایط بررسی شده، گرافن سه لایه بهترین کاندید برای این منظور است. در این مقاله مقدار پذیرندگی مرتبه دوم این نوع ساختار گرافن، بدست آمده است.

Authors

محبوبه نصرتی

گروه فیزیک و فوتونیک، دانشگاه تحصیلات تکمیلی صنعتی و فناوری پیشرفته، ماهان، کرمان

مطهره سادات حسینیان

گروه فیزیک و فوتونیک، دانشگاه تحصیلات تکمیلی صنعتی و فناوری پیشرفته، ماهان، کرمان

محمدآقا بلوری زاده

گروه فیزیک و فوتونیک، دانشگاه تحصیلات تکمیلی صنعتی و فناوری پیشرفته، ماهان، کرمان